Daniel Sutton, Samsung Semiconductor, Austin, Texas
La metrología en obleas de semiconductores es necesaria para comprender los objetivos del proceso y las fuentes de variación. Para la introducción de nuevos dispositivos y la producción en volumen inicial, la metrología de obleas puede utilizar una gran cantidad de sitios para establecer objetivos, configurar APC (Control Automatizado de Procesos) y determinar las fuentes de variación en la oblea. Sin embargo, la metrología continua en la producción a menudo se considera como algo que no agrega valor. A medida que aumenta el volumen de fabricación y el proceso madura, surge la pregunta: ¿cuál es el propósito de la metrología continua en relación con la cantidad de sitios? ¿Se puede reducir la cantidad de sitios para aumentar el rendimiento en metrología? En el pasado, es posible que se hayan eliminado sitios según los mapas actuales con sitios reducidos en otra producción y se haya analizado el impacto del nuevo mapa con los datos del sitio actual. Utilizando la función JSL incorporada Elegir Matriz K (n, k) ) que genera todas las combinaciones posibles para elegir K sitios de N sitios, y el Perfilador de predicciones , se crearon scripts JMP que podían analizar y ponderar rápidamente todas las combinaciones de K variables y permitir al usuario elegir el mejor mapa de sitios reducido en función de varios requisitos. Se mostrarán ejemplos para diferentes escenarios.
