Daniel Sutton, 삼성 반도체, 오스틴, TX
반도체 웨이퍼의 계측은 프로세스 타겟팅과 변동 소스를 이해하는 데 필요합니다. 새로운 장치 도입 및 초기 양산의 경우 웨이퍼 계측은 타겟을 설정하고 APC(자동 프로세스 제어)를 설정하고 웨이퍼 전체에서 변동 소스를 확인하기 위해 많은 사이트를 사용할 수 있습니다. 그러나 생산에 대한 지속적인 계측은 종종 부가가치가 없는 것으로 간주됩니다. 제조량이 증가하고 프로세스가 성숙함에 따라 다음과 같은 의문이 제기됩니다. 사이트 수와 관련하여 지속적인 계측의 목적은 무엇입니까? 계측에서 처리량을 늘리기 위해 사이트 수를 줄일 수 있습니까? 과거에는 다른 생산에서 감소된 사이트가 있는 현재 맵을 기반으로 사이트를 제거하고 현재 사이트 데이터로 새로운 맵의 영향을 분석했을 수 있습니다. Choose K sites from N sites에 대한 모든 가능한 조합을 생성하는 기본 제공 JSL 함수 NChooseKMatrix(n,k ) 와 Prediction Profiler를 활용하여 다양한 K의 모든 조합을 빠르게 분석하고 평가하고 사용자가 다양한 요구 사항에 따라 최상의 감소된 사이트 맵을 선택할 수 있도록 하는 JMP 스크립트가 생성되었습니다. 다양한 시나리오에 대한 예가 나와 있습니다.
