Daniel Sutton, Samsung Semiconductor, Austin, TX
La metrologia sui wafer semiconduttori è necessaria per comprendere il targeting del processo e le fonti di variazione. Per l'introduzione di nuovi dispositivi e la produzione iniziale in volume, la metrologia dei wafer può utilizzare un gran numero di siti per stabilire i target, impostare l'APC (Automated Process Control) e determinare le fonti di variazione nel wafer. Tuttavia, la metrologia continua sulla produzione è spesso considerata come un valore non aggiunto. Con l'aumento del volume di produzione e la maturazione del processo, sorge la domanda: qual è lo scopo della metrologia continua in relazione al numero di siti? Il numero di siti può essere ridotto per aumentare la produttività in metrologia? In passato, i siti potrebbero essere stati rimossi in base alle mappe correnti con siti ridotti su altre produzioni e l'impatto della nuova mappa analizzato con i dati del sito corrente. Utilizzando la funzione JSL integrata NChooseKMatrix(n,k ) che genera tutte le possibili combinazioni per Choose K sites from N sites, e il Profilatore di previsione , sono stati creati script JMP che possono analizzare e soppesare rapidamente tutte le combinazioni di K variabili e consentire all'utente di scegliere la migliore mappa del sito ridotta in base a vari requisiti. Saranno mostrati esempi per diversi scenari.
