Daniel Sutton, Samsung Semiconductor, Austin, TX
Die Messtechnik an Halbleiterwafern ist notwendig, um Prozessziele und Variationsquellen zu verstehen. Bei der Einführung neuer Geräte und der anfänglichen Serienproduktion kann die Wafermesstechnik eine große Anzahl von Standorten verwenden, um Ziele festzulegen, APC (Automated Process Control) einzurichten und Variationsquellen über den Wafer hinweg zu bestimmen. Die laufende Messtechnik in der Produktion wird jedoch oft als nicht wertschöpfend angesehen. Mit zunehmendem Produktionsvolumen und der Weiterentwicklung des Prozesses stellt sich die Frage: Was ist der Zweck der fortlaufenden Messtechnik im Verhältnis zur Anzahl der Standorte? Kann die Anzahl der Standorte reduziert werden, um den Durchsatz bei der Messtechnik zu erhöhen? In der Vergangenheit wurden Standorte möglicherweise auf der Grundlage aktueller Karten mit reduzierten Standorten in anderen Produktionen entfernt und die Auswirkungen der neuen Karte mit den aktuellen Standortdaten analysiert. Unter Verwendung der integrierten JSL-Funktion NChooseKMatrix(n,k ) , die alle möglichen Kombinationen für „Wählen Sie K Standorte aus N Standorten“ generiert, und des Vorhersage-Profiler wurden JMP-Skripte erstellt, die alle Kombinationen mit unterschiedlichen K schnell analysieren und gewichten und es dem Benutzer ermöglichen, die beste reduzierte Standortkarte basierend auf verschiedenen Anforderungen auszuwählen. Es werden Beispiele für unterschiedliche Szenarien gezeigt.
