Daniel Sutton, Samsung Semiconductor, Austin, Texas
La métrologie sur les plaquettes de semi-conducteurs est nécessaire pour comprendre le ciblage du processus et les sources de variation. Pour l'introduction de nouveaux appareils et la production en volume initiale, la métrologie des plaquettes peut utiliser un grand nombre de sites pour établir des cibles, configurer l'APC (Automated Process Control) et déterminer les sources de variation sur la plaquette. Cependant, la métrologie continue sur la production est souvent considérée comme sans valeur ajoutée. À mesure que le volume de fabrication augmente et que le processus arrive à maturité, la question se pose : quel est le but de la métrologie continue par rapport au nombre de sites ? Le nombre de sites peut-il être réduit pour augmenter le débit de la métrologie ? Dans le passé, des sites ont pu être supprimés sur la base de cartes actuelles avec des sites réduits sur d'autres productions, et l'impact de la nouvelle carte a été analysé avec les données du site actuel. En utilisant la fonction JSL intégrée NChoisissezKMatrix(n,k ) qui génère toutes les combinaisons possibles pour Choose K sites from N sites, et le Profileur de prédiction , des scripts JMP ont été créés qui pouvaient analyser et peser rapidement toutes les combinaisons de K variables, et permettre à l'utilisateur de choisir la meilleure carte de site réduite en fonction de diverses exigences. Des exemples de différents scénarios seront présentés.
