在半導體及相關產業的數據中，我們通常存在多種變異來源。例如，批次間變異、晶圓間變異以及工廠間變異。在繪製控制圖時，一個點通常代表一個批次。該批次通常是一個平均值，而從該平均值出發測量的多個點則代表多個晶圓和/或工廠的數據。在傳統的平均值控制限計算中，組內變異用於計算平均值控製圖的限值。但是，晶圓間變異和工廠間變異可能與批次間變異完全無關。因此，如果基於晶圓間變異加上工廠間變異計算的控制限值在均值控製圖上看起來會非常荒謬，因為每個點代表一個批次。我看過一些實際資料範例，使用傳統的平均值控制限計算方法，結果幾乎所有點都被標記為超出控制範圍（OOC），因為限值設定得太緊了。
如果本例中 Xbar 控製圖的限值是基於批次間差異設定的，那就好得多了。
據我所知，目前只有在 JMP17 中才能透過「分析」>「品質和流程」>「舊版控製圖」>「預匯總」來實現此功能。我擔心「預先匯總」功能在未來的 JMP 版本中會被移除（「舊版」）。要么將其保留為 JMP 的功能平台，要么創建一個新的平台，使其具備從同一控製圖的變異計算控制限的相同功能。
