在半导体及相关行业的数据中，我们通常存在多种变异来源。例如，批次间变异、晶圆间变异以及工厂间变异。在绘制控制图时，一个点通常代表一个批次。该批次通常是一个平均值，而从该平均值出发测量的多个点则代表多个晶圆和/或工厂的数据。在传统的均值控制限计算中，组内变异用于计算均值控制图的限值。但是，晶圆间变异和工厂间变异可能与批次间变异完全无关。因此，如果基于晶圆间变异加上工厂间变异计算的控制限值在均值控制图上看起来会非常荒谬，因为每个点代表一个批次。我见过一些实际数据示例，使用传统的均值控制限计算方法，结果几乎所有点都被标记为超出控制范围（OOC），因为限值设置得太紧了。
如果本例中 Xbar 控制图的限值是基于批次间差异设定的，那就好得多了。
据我所知，目前只有在 JMP17 中才能通过“分析”>“质量和过程”>“旧版控制图”>“预汇总”来实现此功能。我担心“预汇总”功能在未来的 JMP 版本中会被移除（“旧版”）。要么将其保留为 JMP 的一个功能平台，要么创建一个新的平台，使其具备从同一控制图的变异计算控制限的相同功能。
