안녕하세요.
4PL 곡선을 적합할 때 더 많은 변수를 생성하는 방법에 대한 질문이 있습니다.
예를 들어, 우리는 일반적으로 10개의 연속 희석 농도 지점을 테스트하고 각 지점에서 기준 제품과 테스트 제품에 대한 3중 결과가 나옵니다.
그런 다음, 로그로 변환된 농도 데이터를 사용하여 시그모이드 곡선-로지스틱 곡선-로지스틱 4p를 사용한 비선형 피팅을 사용하여 동등성 검정을 수행합니다.
그리고 우리는 4가지 카테고리(성장률, 변곡점, 하부 점근선, 상부 점근선)가 있는 차트를 볼 수 있습니다.
내 질문은
위의 4가지 범주 외에 새로운 변수를 생성하는 것이 가능합니까?
경우에 따라 기준 표본과 검정 표본 비율의 작은 변화가 큰 영향을 미쳐, 하위 점근선 비율에서 더 큰 변동성을 보일 수 있습니다. 이러한 잠재적 단점을 극복하기 위해 Yang 등은 하위 점근선만을 고려하지 않고 상위 점근선과 하위 점근선의 비율로 함께 고려할 것을 제안합니다. 예를 들어, 새 변수 = (상위 점근선 - 하위 점근선) 기준 / (상위 점근선 - 하위 점근선) 검정과 같이 계산합니다.
이는 데이터 테이블에 새로운 열을 만드는 것이 아니라 결과 데이터(상위 및 하위 점근선)를 활용하고 새로운 변수를 만들어야 한다고 생각합니다.
저와 같은 문제를 겪는 분이 있나요?
시간 내주셔서 감사합니다.
