Messtechnik an Halbleiterwafern ist notwendig, um Prozessziele und Variationsquellen zu verstehen. Bei der Einführung neuer Bauelemente und der anfänglichen Serienproduktion kann die Wafermesstechnik eine große Anzahl von Standorten nutzen, um Ziele festzulegen, die automatische Prozesskontrolle (APC) einzurichten und Variationsquellen über den Wafer hinweg zu ermitteln. Kontinuierliche Messtechnik in der Produktion wird jedoch oft als nicht wertschöpfend angesehen. Mit steigendem Produktionsvolumen und ausgereiftem Prozess stellt sich die Frage: Welchen Zweck hat die kontinuierliche Messtechnik im Verhältnis zur Anzahl der Standorte? Kann die Anzahl der Standorte reduziert werden, um den Durchsatz in der Messtechnik zu erhöhen? In der Vergangenheit wurden Standorte möglicherweise basierend auf aktuellen Karten mit reduzierten Standorten in anderen Produktionsstätten entfernt und die Auswirkungen der neuen Karte anhand der aktuellen Standortdaten analysiert. Mithilfe der integrierten JSL-Funktion NChooseKMatrix(n,k ) , die alle möglichen Kombinationen für „Wähle K Standorte aus N Standorten“ generiert, und des Vorhersage-Profiler wurden JMP-Skripte erstellt, die alle Kombinationen mit variierenden K schnell analysieren und gewichten und es dem Benutzer ermöglichen, die beste reduzierte Standortkarte basierend auf verschiedenen Anforderungen auszuwählen. Es werden Beispiele für verschiedene Szenarien gezeigt.
