La métrologie des plaquettes de semi-conducteurs est nécessaire pour comprendre le ciblage des processus et les sources de variation. Pour l'introduction de nouveaux dispositifs et la production initiale en volume, la métrologie des plaquettes peut utiliser un grand nombre de sites pour établir les cibles, configurer le contrôle automatisé des processus (CAP) et déterminer les sources de variation sur la plaquette. Cependant, la métrologie continue en production est souvent considérée comme sans valeur ajoutée. Avec l'augmentation du volume de production et la maturation du processus, la question se pose : quel est l'intérêt de la métrologie continue par rapport au nombre de sites ? Peut-on réduire le nombre de sites pour augmenter le rendement métrologique ? Par le passé, des sites pouvaient être supprimés sur la base des cartes actuelles, avec des sites réduits sur d'autres productions, et l'impact de la nouvelle carte était analysé avec les données des sites actuels. Grâce à la fonction JSL intégrée NChooseKMatrix(n,k ) , qui génère toutes les combinaisons possibles pour « Choose K sites parmi N », et au Profileur de prédiction , des scripts JMP ont été créés pour analyser et pondérer rapidement toutes les combinaisons de K sites différents, et permettre à l'utilisateur de choisir la carte de sites réduite la plus adaptée à ses besoins. Des exemples de différents scénarios seront présentés.
