In passato, ULIS ha dovuto affrontare una crisi importante che ha avuto un impatto sulla funzionalità dei prodotti big-runner. L'applicazione JMP ® è stata utilizzata con successo durante i 3 passaggi principali della risoluzione della crisi, utilizzando la metodologia 8D:
- - Descrizione del problema:
- Per confrontare i tassi di guasto per prodotto è stato utilizzato un calcolo dell'intervallo di confidenza.
- La “piattaforma di potenza” è stata utilizzata per determinare se il difetto fosse originariamente presente o se fosse causato da una deriva del processo.
- Sono stati creati Wafermaps personalizzati nella "Piattaforma Graph builder" per localizzare il difetto sui wafer di silicio. L'interfaccia user-friendly dei Graph builder è stata utile anche per creare cronogrammi delle cronologie dei processi batch e per determinare quando si è verificato il problema.
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- - Analisi della causa principale e azione correttiva permanente:
- Utilizzando la "piattaforma di distribuzione" personalizzata di JMP ® e creando esperimenti di screening e superficie di risposta, si è scoperto che una variazione della portata del gas influenza il tasso di guasto.
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- Validazione dell'efficacia delle azioni correttive permanenti:
- La “piattaforma di potenza” è stata utilizzata per determinare la dimensione minima obbligatoria del campione per convalidare l’efficienza dell’azione correttiva con un ragionevole livello di confidenza (potenza = 80%).
Infine, JMP ® ha avuto un ruolo fondamentale nel successo della risoluzione di questa crisi.
