可視化一個單位內多個測量值的空間資訊；由 JSL 支持Tony Cooper 博士，SAS 首席分析顧問
SAS 技術顧問 Sam Edgemon
半導體晶圓製造和 CMM（座標測量機）為單一零件提供多項測量。單位內重複測量的另一個例子是缺陷計數。此數據包括單位內的位置。使用空間資訊進行建模可能很困難，但在視覺化中應始終使用空間資訊。這些數據提供的潛在資訊包括：「當前單元是否與其他近期單元相似？」以及「單位內部的機會集中在哪裡？」可以使用主成分分析 (PCA)、多元控製圖和聚類來分析和可視化這些數據。最重要的是，數據將使用 JMP 中的自訂地圖進行視覺化。為了使分析能夠進行，資料需要有多種排列方式；分割資料以進行 PCA 和聚類，同時將聚類資訊與原始堆疊視圖合併。本簡報介紹了一種使用 JMP 腳本簡化的方法，用於在控製圖上指示類似的處理時間段，然後在每個時間段內映射零件內部資訊。
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