Tony Cooper, PhD, SAS의 수석 분석 컨설턴트
Sam Edgemon, SAS의 수석 기술 컨설턴트
반도체 웨이퍼 제조 및 CMM(좌표 측정기)은 단일 부품에 대한 여러 측정을 제공합니다. 단위 내에서 반복 측정의 또 다른 예는 결함 수입니다. 이 데이터에는 단위 내 위치가 포함됩니다. 공간 정보를 사용하여 모델링하는 것은 어려울 수 있지만 시각화에는 항상 공간 정보를 사용해야 합니다. 이 데이터에서 제공하는 잠재적인 정보에는 "현재 단위가 다른 최근 단위와 유사한가?" 및 "단위 내에서 기회가 집중된 곳은 어디인가?"가 포함됩니다. 이 데이터는 주성분 분석(PCA), 다변량 관리 차트 및 클러스터링을 사용하여 분석하고 시각화할 수 있습니다. 가장 중요한 것은 데이터가 JMP 내의 사용자 지정 맵을 사용하여 시각화된다는 것입니다. 분석이 작동하려면 데이터를 두 개 이상 배열해야 합니다. PCA 및 클러스터링을 위해 데이터를 분할하지만 클러스터 정보를 원래의 스택된 뷰와 병합해야 합니다. 이 프레젠테이션에서는 JMP 스크립팅으로 간소화하여 관리 차트에서 유사한 처리 기간을 표시한 다음 각 기간 동안의 부품 내 정보를 매핑하는 방법을 설명합니다.
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