Tony Cooper, PhD, Consulente analitico principale, SAS
Sam Edgemon, consulente tecnico principale, SAS
La produzione di wafer semiconduttori e le CMM (macchine di misura a coordinate) forniscono molte misurazioni per una singola parte. Un altro esempio di misure ripetute all'interno di un'unità sono i conteggi dei difetti. Questi dati includono una posizione all'interno dell'unità. La modellazione tramite informazioni spaziali può essere difficile, ma le informazioni spaziali dovrebbero sempre essere utilizzate nella visualizzazione. Le potenziali informazioni fornite da questi dati includono: "L'unità corrente è simile ad altre unità recenti?" e "Dove sono concentrate le opportunità all'interno dell'unità?" Questi dati possono essere analizzati e visualizzati tramite analisi delle componenti principali (PCA), grafici di controllo multivariati e clustering. Ancora più importante, i dati saranno visualizzati tramite mappe personalizzate all'interno di JMP. Sarà necessario disporre più di una disposizione dei dati affinché l'analisi funzioni; suddividendo i dati per PCA e clustering, ma anche unendo le informazioni del cluster con la vista originale impilata. Questa presentazione descrive una metodologia semplificata con script JMP per indicare periodi di tempo di elaborazione simili su un grafico di controllo e quindi mappare le informazioni all'interno della parte durante ciascuno di tali periodi di tempo.
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