使用 JMP(R) 進行大規模製程監控 (2019-US-TUT-193)等級：中級
Laura Lancaster，SAS JMP 首席研究統計開發人員
丁劍鋒，JMP資深研究統計開發人員，SAS
在這個大數據和複雜製造的時代，通常需要監控和分析大量的製程數據以維持或提高品質。 JMP 有幾種工具可以幫助分析師快速有效地增加製程監控的規模。流程篩選平台允許使用者輕鬆掃描流程的穩定性和能力，使他們能夠集中註意力於需要改進的流程。該平台最初根據控製圖、能力和穩定性計算產生一份摘要報告，並建立多個圖表以便快速直觀地評估流程健康狀況。根據這些初步結果，可以輕鬆選擇需要關注的流程，並使用控製圖產生器和製程能力更深入地探索它們。 JMP 15 中的新功能模型驅動多元控製圖 (MDMCC) 平台可讓使用者監控大量高度相關的流程。該平台可與 PCA 和 PLS 平台結合使用，監測隨時間變化的多元過程變化，提前警告過程變化並提出過程變化的可能原因。我們將透過案例研究來展示如何使用 JMP 來監控和分析許多流程，以實現快速有效的改進。
