JMP(R) 品質和 SPC 的最新發展 (2019-US-45MP-195)等級：中級
Laura Lancaster，SAS JMP 首席研究統計開發人員
丁劍鋒，JMP資深研究統計開發人員，SAS
Annie Dudley Zangi，JMP 資深研究統計開發人員，SAS
JMP 有幾個新的品質平台和功能——分佈、CUSUM 控製圖和模型驅動多元控製圖的現代化過程能力——使品質分析比以往更容易、更有效。長期存在的分佈平台已針對 JMP 15 進行了更新，具有更現代化、功能更豐富的製程能力報告，該報告現在與製程能力和控製圖產生器中的能力報告相符。我們將展示「分佈」中的新過程能力特徵如何透過整合過程改進方法使能力分析更容易。 CUSUM 控製圖平台旨在協助使用者偵測其流程隨時間推移出現的細微變化，例如逐漸漂移，而 Shewhart 圖對此效果較差。我們將示範如何使用 CUSUM 控製圖平台並使用平均運行長度來評估圖表效能。 JMP 15 中的新功能模型驅動多元控製圖 (MDMCC) 平台專為監控大量高度相關製程變數的使用者而設計。我們將示範如何將 MDMCC 與 PCA 和 PLS 平台結合使用，以監控隨時間變化的多元流程變化、提前警告流程變化並提出流程變化的可能原因。
