Autor
Don Kent, ingeniero sénior de productos, IM Flash Technologies dkent
En la fabricación de semiconductores a gran escala, algunas obleas se clasifican semanalmente como de bajo rendimiento. Con frecuencia, estas obleas presentan firmas espaciales distintivas. Asimismo, muchas oportunidades de mejora del rendimiento se vinculan con obleas con firmas espaciales sutiles. En ambos casos, los patrones espaciales ofrecen pistas para mejorar el proceso. Los esfuerzos para revisar y clasificar estas firmas espaciales suelen dar sus frutos; sin embargo, estos esfuerzos son los que requieren más tiempo y están más abiertos a la interpretación. Se ha creado un script de clasificación de patrones espaciales de obleas con JSL. La estadística espacial y el aprendizaje automático se han combinado con técnicas de análisis de datos de alta dimensión en una aplicación de agrupamiento adaptativo y visualización de obleas. La solución JSL utiliza varias de las plataformas de JMP, incluyendo PCA y agrupamiento, y utiliza el Constructor de Gráficos para visualizar los agrupamientos espaciales resultantes mediante la referencia a archivos de mapas de obleas personalizados. Este complemento, implementado en la red IM Flash, permite a ingenieros y técnicos clasificar rápidamente las obleas en grupos similares según sus firmas espaciales. Esto permite una determinación más rápida de la causa raíz al proporcionar una métrica confiable para la minería de datos que es más rápida y precisa que los métodos de puntuación manual.
