可視化晶圓到遮罩座標轉換器應用 (2019-US-30MP-182)等級：中級
John Como，英特爾公司製程工程師
在半導體製造中，掩模用於在光刻過程中將圖案壓印到晶圓上。 6 吋掩模版上的圖案尺寸比 12 吋晶圓上印刷的圖案大 4 倍，因此多個晶片可印刷到單一晶圓上。掩模版圖案上的一個缺陷可能導致重複出現壞晶片，並給製造公司帶來數百萬美元的損失，因此，發現並表徵掩模版缺陷至關重要。通常，掩模版偵測機使用與晶圓偵測機不同的座標系，且在掩模版上的線性距離比晶圓上的距離長 4 倍。如果在光罩上發現缺陷，則必須進行從光罩到晶圓座標的繁瑣轉換，以驗證是否存在影響。這個用 JSL 編寫的互動式應用程式可以輕鬆地將座標從一個系統轉換到另一個系統，甚至可以創建掩模、晶圓和缺陷位置的圖像，以便於與真實數據進行比較。本示範將介紹轉換背後的數學原理，並展示如何使用 JSL 建立應用程式來簡化計算。
