시각적 웨이퍼에서 마스크 좌표 변환기 응용 프로그램(2019-US-30MP-182)레벨: 중급
존 코모, 프로세스 엔지니어, 인텔
반도체 제조에서 마스크는 리소그래피 공정에서 웨이퍼에 패턴을 각인하는 데 사용됩니다. 6인치 마스크의 패턴 치수는 12인치 웨이퍼에 인쇄된 패턴보다 4배 더 크기 때문에 여러 개의 다이가 단일 웨이퍼에 인쇄됩니다. 마스크 패턴의 단일 결함으로 인해 불량 다이가 반복적으로 발생하여 제조 회사에 수백만 달러의 비용이 발생할 수 있으므로 마스크 결함을 찾아 특성화하는 것이 필수적입니다. 종종 마스크 검사 기계는 웨이퍼 검사 기계와 다른 좌표계를 사용하고 마스크의 선형 거리는 웨이퍼의 거리보다 4배 더 깁니다. 마스크에서 결함이 발견되면 효과가 있는지 확인하기 위해 마스크 좌표에서 웨이퍼 좌표로 지루한 변환을 수행해야 합니다. JSL로 작성된 이 대화형 애플리케이션을 사용하면 좌표를 한 시스템에서 다른 시스템으로 쉽게 변환할 수 있으며 마스크, 웨이퍼 및 결함 위치의 이미지를 만들어 실제 데이터와 쉽게 비교할 수도 있습니다. 이 프레젠테이션에서는 변환의 기반이 되는 수학을 다루고 JSL을 사용하여 계산을 단순화하는 애플리케이션을 만드는 방법을 보여줍니다.
