Livello: Intermedio
John Como, ingegnere di processo, Intel Corp.
Nella produzione di semiconduttori, le maschere vengono utilizzate per imprimere motivi sui wafer nel processo litografico. Le dimensioni del motivo sulle maschere da 6" sono 4 volte più grandi del motivo stampato sui wafer da 12", quindi più matrici vengono stampate su un singolo wafer. Un singolo difetto sul motivo della maschera può causare una matrice difettosa ripetuta e costare milioni all'azienda produttrice, quindi è fondamentale che i difetti della maschera vengano individuati e caratterizzati. Spesso, le macchine di ispezione delle maschere utilizzano un sistema di coordinate diverso rispetto alle macchine di ispezione dei wafer e le distanze lineari sulla maschera sono 4 volte più lunghe delle distanze sui wafer. Se viene rilevato un difetto sulla maschera, è necessario eseguire una noiosa conversione dalle coordinate della maschera a quelle del wafer per verificare se vi è un effetto. Questa applicazione interattiva scritta in JSL semplifica la conversione delle coordinate da un sistema all'altro e crea persino un'immagine della maschera, del wafer e della posizione del difetto per un facile confronto con i dati del mondo reale. Questa presentazione illustrerà la matematica alla base delle conversioni e mostrerà come JSL è stato utilizzato per creare un'applicazione volta a semplificare i calcoli.
