增強和擴展 JMP 的製程篩選平台 (2019-US-45MP-248)等級：中級
Vincent Faller，Predictum Inc. 資深軟體工程師
Karen Biagini，KLA 公司統計學家
對於需要以常規方式執行一系列複雜任務的使用者來說，JMP 插件非常實用。為了在客戶專案中幫助這類用戶，我們面臨著擴展和客製化 JMP 中「製程篩選」平台的挑戰，使其更全面地適用於 KLA 的新產品開發應用。我們對「工藝篩選」平台進行了定制，使其在某些方面得到簡化，在其他方面也得到了擴展。使用者可以透過一鍵快速啟動來繪製他們選擇的分析選項，包括向下鑽取查看 Levey Jennings 控制圖、Cpk 直方圖以及具有自訂 P/T 計算的變異性圖。除了這種自訂向下鑽取視圖外，KLA 還提供了新的視覺化功能，可以透過新穎的方式跨參數尋找視覺化模式。此專案的主要實施挑戰是確保支援自訂功能，同時仍保留 JMP 的原生功能，例如自動重新計算行排除。本次演講將從 KLA 的角度探討 JMP 外掛程式及其用途和優勢，並從開發的角度探討其設計和實作見解。
