增强和扩展 JMP 的工艺筛选平台 (2019-US-45MP-248)级别：中级
Vincent Faller，Predictum Inc. 高级软件工程师
Karen Biagini，KLA 公司统计学家
对于需要以常规方式执行一系列复杂任务的用户来说，JMP 插件非常实用。为了在客户项目中帮助这类用户，我们面临着扩展和定制 JMP 中的工艺筛选平台的挑战，使其更全面地适用于 KLA 的新产品开发应用。我们对工艺筛选平台进行了定制，使其在某些方面得到简化，在其他方面也得到了扩展。用户可以通过一键快速启动来绘制他们选择的分析选项，包括向下钻取查看 Levey Jennings 控制图、Cpk 直方图以及带有自定义 P/T 计算的变异性图。除了这种自定义向下钻取视图外，KLA 还提供了新的可视化功能，可以通过新颖的方式跨参数寻找视觉模式。该项目的主要实施挑战是确保支持自定义功能，同时仍保留 JMP 的原生功能，例如自动重新计算行排除。本次演讲将从 KLA 的角度探讨 JMP 插件及其用途和优势，并从开发的角度探讨其设计和实施见解。
