多模态分布分析
使用 JMP 脚本功能发现隐藏在密度分布中的变异源
抽象的
在半导体晶圆厂，需要采集不同硅片上的多个电学测量数据。这些测量数据通常呈正态分布，尽管情况并非总是如此。由于工艺流程变化、设备偏差或偏移，这些分布通常会呈现出多种模式。我们的目标是自动识别潜在的多种模式，从而最大限度地降低噪声。
作者
安东尼奥·D·德安吉洛、菲利斯·罗素
公司
Lfoundry srl
