다중 모달리티 분포 분석다중 모달리티 분포 분석
JMP 스크립팅 기능을 사용하여 밀도 분포에 숨겨진 변동성 소스를 발견합니다.
추상적인
반도체 팹에서는 여러 실리콘 웨이퍼에서 여러 전기적 측정값을 수집합니다. 이러한 측정값과 관련된 분포는 일반적으로 정상이지만, 항상 그런 것은 아닙니다. 이러한 분포는 공정 변화, 장비 편차 또는 오프셋으로 인해 여러 모드를 나타내는 경우가 많습니다. 목표는 노이즈를 최소화하기 위해 근본적인 여러 모드를 자동으로 식별하는 것입니다.
저자
안토니오 D. 안젤로, 펠리체 루소
회사
엘파운드리 srl
