定義-測量-分析-改進-控制是一種六西格瑪方法，用於有條不紊地完成五個階段，以找到半導體晶片後端組裝中處理問題的解決方案。在每個階段中，都會收集數據，並使用 JMP 來描述數據並提供對行動和因素有效性的推論，以將收益率趨勢推向目標。
定義階段在專案章程中做出了重要貢獻，並在 JMP Graph Builder 的幫助下產生時間序列圖和長條圖，以解釋實現 SMART 目標的必要性。
在JMP中，帕累托圖、線性和偏差、量具R&R和製程能力分析是測量階段使用的主要工具。選擇合適的樣本量以符合預期結果的置信水準。
參數和非參數分佈的比例和平均值假設檢定是分析階段使用的主要工具。方差齊性有助於理解過程的穩健性。
JMP DOE 是改善階段使用的主要工具，時間序列圖用於監測第一批短期試點批次。
最後，JMP 控製圖用於監控啟動流程改進後的趨勢。
