是什么启发了这个愿望清单请求？
2024 年 Discovery 之前与用户进行了 2 次对话（ 其中一次是在 SE 讨论板上），2 次在 Discovery 期间与用户进行了对话。
请描述您希望看到的新的或改进的功能或解决方案。
如果 JMP 能够原生处理同一个刻画器中的多条曲线（每条曲线都有不同的目标），那么用户就可以设置每条曲线的重要性，然后让刻画器进行优化/找到最佳点，这样就太好了。目前，这需要至少 2 种解决方法中的一种，记录在这篇博文中）。
如果提供此新功能，对您和/或其他用户有何价值？
优化竞争曲线的能力在很多情况下都很有用，基本上在用户需要比较权衡曲线的任何地方。
这是外部客户请求吗？
是的。我不知道@Florian_Vogt的客户的名字。
我在 Discovery 进行过两次讨论，分别与 Peak Nano 的 Michael Cantwell 和 Brady Worldwide 的 Jeff Hammes 进行（尽管 Jeff 的具体需求最终略有不同）。
是否存在具有此功能或解决方案且值得我们了解的竞争性软件包？
据我所知没有。
这是否会影响客户的续约、扩展或采用？如果我们不解决这个问题，是否会使账户面临风险？
我不这么认为，特别是因为有解决方法。
Jotun 特别要求这一点，但其他客户也遇到过这样的情况，他们希望优化多个响应，即曲线（例如光谱 + 拉伸强度测试，或其他动态机械测试）
感谢您的请求，以及分享背景信息和解决方法。这不会出现在 JMP 19 中，但它在 JMP 20 周期的考虑列表中。
