I
我
仍然
看到
你的
抛光
桌子
2
吞吐量
优化
滑动
也
,
经过 这 方式 .
I 我 不是 当然 如果 它 的 只是 真的 卡顿 或者 什么 的 去 在 那里 .
你 '关于 不是 看到 这 标题 滑动 ?
现在 I 我 看到 这 标题 滑动 .
I 我 去 到 去 前方 和 消音 我 .
是的 , I 大学教师 't 知道 如果 那里 的 任何事物 我们 做 关于 那 任何一个 .
那 的 得到 到 是 喜欢 a 飞涨 或者 可能 一个 互联网 事物 .
出色地 , 让 的 去 前方 和 做 这
和 然后 如果 I 看 那 事物 看 真的 洋基队 ,
I 可能 是 消息传递 你 .
但 I 思考 为了 这 最多 部分 ,
如果 你 只是 或许 拿 a 快的 暂停 之间 幻灯片 ,
我们 '二 是 好的 .
I '二 去 前方 和 沉默的 ,
和 然后 你 能 去 前方 和 得到 开始 , 汤姆 .
I 我 真的 高兴的 到 是 这里 今天 和 呈现 到 你 .
I '二 是 讨论 化学 机械的 平面化 或者 CMP .
这 是 一个 不可缺少的 步 在 这 半导体 制造业 过程
那 I 将要 给 a 小的 少量 的 背景 在
作为 I 移动 通过 我的 幻灯片 .
让 的 去 到 这 第一的 滑动 的 这 推介会 .
快的 概述 的 CMP .
一次 再次 , 那 站立 为了 化学 机械的 平面化 ,
和 那 描述 这 二 流程 涉及
和 平面化 肯定 层 的 电路 在 这 半导体 场地 .
它 的 至关重要的 到 平面化 每个 层 的 电路
所以 那 这 一 那 去 在 顶部 的 这 前 层
将要 不是 有 任何 短裤 或者 打开 或者 短的 电路 .
这 化学 部分 的 化学 机械的 平面化
是 什么时候 我们 介绍 a 液体
到 反应 和 这 顶部 原子 层 的 这 材料 那 我们 是 平面化 .
那 反应 软化 这 层 ,
无论 它 的 a 金属 或者 一个 氧化物 , 任何 这 案件 可能 是 ,
我们 选择 那 化学 所以 那 它 将要 软化 这 顶部 原子 层 .
然后 这 机械的 部分 来
和 这 磨料 那 是 小心 选定 为了 那 抛光 泥浆 .
这些 磨料 然后 消除 那 软化 顶部 层 ,
暴露 这 下一个 原子 层 到 是 软化 经过 这 化学 反应 .
这 过程 是 重复 原子 层 后 原子 层
直到 这 想要的 等级 的 平面化 是 达到 .
喜欢 I 曾是 说 ,
这 平面化 是 至关重要的 到 做 在 之间 每个 层 的 电路
到 确保 那 我们 有 坚硬的 电气 隔离
没有 任何 短裤 或者 打开 .
这 过程 启用 我们 到 桩 许多 层 在 顶部 的 一 其他
和 减少 这 脚印 的 任何 芯片 我们 '关于 制作 .
什么时候 我们 做 这 CMP 流程 ,
许多 的 他们 由 的 a 二 抛光 桌子 过程 到 使能够 最大限度 吞吐量 .
通常 , 这 第一的 桌子 由 的 a 大部分 抛光
在哪里 最多 的 a 物质 是 平面化 和 已移除 ,
和 然后 a 最终的 抛光 或者 第二 抛光 桌子
在哪里 我们 做 这 最终的 触碰 -UPS
和 确保 那 我们 有 好的 电气 隔离 之间 这 电路 .
每个 抛光 桌子 有 a 抛光 软垫
在哪里 我们 按 这 晶圆 包含 这 芯片 反对 ,
和 这 启用 这 抛光 过程 到 发生
和 它 启用 这 泥浆 到 是 按下 反对 这 晶圆 那 包含 这 芯片 .
这 抛光 软垫 , 很遗憾 ,
它 穿着 向下 作为 每个 晶圆 是 抛光 在 它 ,
哪个 抑制 这 运输 的 这 化学 泥浆 到 这 晶圆 表面 .
通常 , 作为 这 抛光 软垫 穿着 , 我们 看 a 减少 在 抛光 速度 ,
哪个 原因 更长 和 更长 抛光 时代 .
如果 我们 大学教师 't 拿 那 穿 因素 进入 帐户
和 我们 '关于 环境 向上 这 二 -桌子 过程 ,
然后 我们 将要 有 一 抛光 桌子 开始 到 占主导地位 ,
和 它 能 实际上 发展 这样的 a 长的 抛光 时间
那 它 将要 变得 a 限制 因素 在 我们的 吞吐量 .
为了 我的 推介会 今天 ,
I 我 解释 a 过程 由此 我们 能 拿 进入 帐户 这 软垫 穿 速度
和 仍然 确保 那 我们 有 优化 吞吐量 .
方法 和 这 结果 .
I 聚集 和 分析 数据 在 JMP
到 展示 这 抛光 时间 相对 抛光 软垫 生活 关系
为了 表格 1 和 2 为了 a CMP 二 -桌子 过程
在 一 的 德克萨斯州 仪器 制造 设施 .
I 然后 用过的 JMP 脚本 语言 ,
这 建造 -在 一体化 功能 到 计算 这 区域
在下面 这 抛光 时间 相对 软垫 生活 曲线 为了 两个都 表格 .
然后 , 最后 , I 用过的 这 系统 的 方程式
到 解决 为了 a 桌子 1 抛光 时间 开始 观点
那 已启用 平等的 抛光 时间 相对 抛光 软垫 生活 融合的 区域
为了 表格 1 和 2 .
这 确保 那 我们 有 已达成 a 最大化 工具 输出
为了 这 CMP 过程 .
结论 是 那 我们 能 使用 JMP
到 发展 , 第一的 的 全部 , 抛光 时间 相对 抛光 软垫 生活 曲线 .
然后 , 第二 , 我们 能 使用 JMP 脚本 语言 , 建造 -在 集成商 .
我们 能 使用 这 组合
作为 一个 高效的 方式 到 优化 CMP 二 桌子 流程 为了 吞吐量 .
让 的 去 到 这 下一个 滑动 .
这 曲线 那 我们 '关于 寻找 在 是 什么 我们 得到 什么时候 我们 阴谋 这 抛光 时间
在 这 第一的 桌子 相对 这 抛光 软垫 生活 的 那 第一的 桌子 .
作为 我们 能 看 , 这 抛光 时间 作为 这 软垫 穿着
和 我们 抛光 更多的 和 更多的 晶圆 在 这 抛光 软垫 ,
我们 开始 到 看 抛光 时代 增加 相当 戏剧性地 .
使用 JMP , 我们 能 合身 a 线 到 这 数据
和 发展 a 简单的 Y 等于 Mx 加 b 坡 截距 功能 到 合身 这 数据 .
I 我 使用 a 第一的 命令 这里 ,
但 如果 这 数据 合理的 它 , 我们 可以 使用 a 第二 或者 第三 命令 .
但 在 这 案件 , a 第一的 命令 是 充足的 .
我们 发达 这 方程 为了 抛光 时间 相对 软垫 数数 ,
和 然后 我们 使用 这 JSL 集成商 到 整合 这 区域 在下面 这 线 .
那 的 为了 这 抛光 桌子 1 .
然后 I '二 讲话 a 小的 少量 更多的 关于 这 方程式 需要 到 解决
为了 这 最佳的 设置 .
但 第一的 的 全部 , 我们 '二 跳 到 抛光 桌子 2 .
抛光 桌子 2 是 这 最终的 , 它 的 这 精加工 桌子
在哪里 我们 结束 移除 任何 这 大部分 材料 是
我们 '关于 使用 到 隔离 或者 形式 这些 电路 , 电气 电路 .
这 相同的 事物 为了 抛光 桌子 2 ,
我们 发达 这 曲线 从 历史 数据
的 抛光 时间 在 秒 相对 这 抛光 软垫 生活 .
通常 , 为了 这 抛光 平台 , 为了 这 最终的 平台 或者 最终的 桌子 ,
这 趋势 和 抛光 软垫 生活 是 不是 作为 发音 作为 它 是
为了 这 大部分 为了 桌子 1 .
前 讨论 a 小的 少量 更多的 关于 这些 方程式 ,
只是 到 制作 当然 每个人 的 在 这 相同的 页 ,
I 通缉 到 展示 什么 身体 这 看起来 喜欢 在 这 晶圆 表面
为了 正在做 这 二 -桌子 抛光 过程 .
前 我们 开始 到 抛光 任何事物 ,
我们 有 a 晶圆 和 图案 电路 在 它 .
然后 , 在 顶部 的 那 晶圆 ,
我们 已经 已存 a 大的 数量 , 相对地 请讲 ,
的 无论 它 的 隔离器 或者 电气 导电 材料 ,
任何 是 需要 到 形式 这 电路 那 我们 已经 蚀刻 这里 .
后 抛光 桌子 1 , 还 已知 作为 这 大部分 抛光 桌子 ,
我们 已经 已移除 a 重要的 数量 的 这 大部分 材料
和 我们 已经 平面化 它 , 制成 它 非常 平坦的 .
然后 后 抛光 桌子 2 ,
哪个 是 还 称为 这 清除 或者 这 结束 桌子 ,
我们 已经 已移除 全部 的 这 大部分 材料
除了 在哪里 它 的 实际上 需要 在 这 图案 电路 .
身体方面 , 那 的 什么 的 发生 在 这 二 抛光 桌子 过程 .
让 的 去 后退 迅速地 到 这 方程式 .
我们 整合 这 区域 在下面 桌子 1 , 哪个 是 在 这 前 滑动 .
那 的 这 大部分 抛光 时间 相对 桌子 1 抛光 软垫 数数 .
然后 我们 还 整合 这 区域 在下面 这 曲线 ,
哪个 是 这 最终的 或者 结束 桌子 .
相同的 事物 , 整合 这 区域 在下面 这 抛光 时间 相对 软垫 数数 线 .
然后 我们 解决 这 线性 系统 的 方程式 到 寻找 哪个 Y -截距 ,
在 这 案件 , 它 的 b1 , 和 那 的 为了 这 桌子 1 .
我们 解决 为了 那 b1 那 将要 创造 一个 平等的 融合的 区域
在下面 这 桌子 1 和 这 桌子 2 曲线 .
只是 作为 a 提醒 ,
这 JMP 脚本 语言 有 a 便利 功能
为了 使能 快的 一体化
和 确定 这 区域 在下面 这些 二 曲线 .
然后 基于 在 a 很少 其他 特性
那 我们 知道 基于 在 历史 或者 基线 分析 ,
然后 我们 '关于 有能力的 到 放 向上 a 系统 的 方程式
和 四 未知 , 四 方程式 ,
和 然后 我们 解决 为了 那 截距 在 这 第一的 曲线
那 启用 最大限度 吞吐量 在 平等的 区域 在下面 这些 曲线 .
和 那 ,
几乎 这 全部的 过程 能 是 完毕 在 JMP ,
和 这 例外 的 解决 a 系统 的 方程式
那 能 间接 是 完毕 在 JMP , 或者 你 能 写 a 脚本 .
但 I 已经 成立 它 更轻松 只是 到 解决 这 系统 的 方程式 手动 ,
但 它 可以 容易地 是 放 向上 到 是 完毕 在 JMP 作为 出色地 .
什么时候 你 结束 这 过程 ,
然后 你 '关于 有能力的 到 优化 这 二 -桌子 CMP 系统
和 你 能 最大化 这 吞吐量
和 所以 最小化 这 数字 的 抛光 工具 必需的 ,
哪个 保存 a 很多 的 钱 和 保存 a 很多 的 时间 .
那 是 这 结尾 的 我的 推介会 .
感谢 你 .
