| 스피커 |
성적 증명서 |
| 빅터 케슬러 |
네, 안녕하세요. 저는 빅터 케슬러입니다. TE 커넥티비티에 인수된 First Sensor라는 회사에서 일하고 있습니다. |
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오늘은 특수 고에너지 이온 구현 프로세스와 JMP를 이용한 선형 회귀 분석을 이용한 프로세스 제어에 대해 설명드리겠습니다. |
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First Sensor는 실리콘 기반 압력 및 광학 센서와 빛 눈사태 감지를 위한 잘 알려진 특수 제품을 생산합니다. |
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포토다이오드. 예를 들어, 요즘에는 가벼운 시스템에서 거리 감지에 사용되며, 미래 응용 분야 중 하나는 자율주행이 될 수 있습니다. |
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그리고 거기에서는 소량의 빛을 감지해야 하며 따라서 매우 빠르며 따라서 우리의 눈사태 광전 다이오드 |
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사용할 수 있습니다. 그리고 이러한 다이오드의 특별한 특성 중 하나는 항복 전압입니다. |
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고객의 특수한 특성에 따라 응용 분야에 맞게 이 파괴 전압을 조정해야 합니다. |
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따라서 우리는 이를 조정하고 이 파괴 전압을 사양 내에서 정확하게 설정해야 합니다. 이는 다이오드에 있어서 매우 민감한 과정입니다. |
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우리는 이것을 사용합니다... 우리는 이 항복 전압을 광전 다이오드의 도핑 프로파일로 제어하고, 이것 역시 고에너지 이온 구현 공정으로 제어합니다. 그러니까 우리가 하는 일은, 분명히, 우리가 이것들을 제작하고 있다는 것입니다. |
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웨이퍼 공정과 미세 기술을 사용하는 포토다이오드이기 때문에 모든 공정을 거치는 데 시간이 많이 걸립니다. 한 단계로 추가하면 |
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독일 작센주 드레스덴-로센도르프에 위치한 헬름홀츠-젠트룸(Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf)의 파트너사에 문의해 보세요. 헬름홀츠-젠트룸은 고에너지에서 매우 정밀한 용량 제어를 위한 특수 시설을 갖추고 있습니다. 이 이온 구현 과정은 상당히 높은 에너지에서 수행됩니다. |
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나는 정확한 것을 말하지 않을 것이다 |
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지금은 에너지를 사용할 수 없지만, 일반적인 이온 이식기로는 할 수 없는 일이고 웨이퍼로 이식해야 할 때 복용량이 정말 낮아서 또 다른 과제입니다. |
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그리고 Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf에서는 실제 공정 제어가 불가능할 정도로 민감합니다. |
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정확한 복용량입니다. 따라서 해야 할 일은 이식된 다양한 복용량 수준 간의 관계를 확립하고, 최종 항복 전압에서 실제 결과를 얻는 것입니다. |
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그리고 이것은 |
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또한 웨이퍼 크기에 따라서도 달라집니다. 우리는 웨이퍼를 다양한 크기로 제작하고 있기 때문입니다. |
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우리는 두 가지 다른 크기를 가지고 있으며 포토다이오드가 있는 다른 제품 영역을 가지고 있습니다. |
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다양한 파장의 빛을 감지하기 위해 고객을 위해 제작되었습니다. 그리고 결국 우리는 약 10가지의 필수 공정 제어를 하게 됩니다. |
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확립되어야 합니다. 그리고 또 다른 |
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이 공정 제어의 과제는 공정 자체, 즉 이온 구현과 파괴 전압 측정에 몇 주, 때로는 몇 달이 걸리는 타임라인이 있어서 이것이 누적되면 문제가 됩니다. |
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네, 정말 어려운 과제입니다. 그래서 더 나은 공정 제어와 더 정확한 제어를 위해 제가 생각해 낸 것이 바로 JMP입니다. |
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이 전체 과정을 자동으로 제어하기 위해서였습니다. 그래서 무엇을 구축하고 있었나요? |
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대부분...잘...많은 스크립트가 있는 일상이었습니다. |
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밤에 자동으로 스크립트를 작업 일정에 추가하고, 프로세스 백엔드에서 수행되는 적절한 측정을 위한 최신 방법을 검색하기 시작합니다. |
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그리고 모든 새로운 웨이퍼 프로버 측정 결과를 수집합니다. 현재 이를 위한 데이터베이스가 없기 때문에 이 작업이 필수적입니다. |
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해당 결과를 검색하는 스크립트입니다. 그리고 데이터를 수집하여 다른 테이블에 저장된 이식 매개변수와 결합합니다. |
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그리고 이상치를 걸러내고 통계적 값을 저장합니다. 특히 웨이퍼의 파괴 전압의 매체를 매우 포괄적인 JMP 데이터 테이블에 저장합니다. |
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또한 데이터가 사용 가능하다면 시각적 검사를 위해 웨이퍼 맵을 생성하고 자동으로 저장하는 것이 더 나을 것이라고 생각했기 때문에 진행 중입니다. |
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나중에 검토해 보겠습니다. 그리고 이것은 여기 왼쪽에서 볼 수 있습니다. 이제 이미지를 확대해 보겠습니다. |
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그렇죠. |
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왼쪽에는 항복 전압이 있고, 반대쪽에는 다른 특성이 표시되어 있는데, 이는 검사에 유용합니다. 그리고 여기서 이미 항복 전압 분포가 대략... |
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웨이퍼 전체에 걸쳐서 말이죠. 그래서 단일 웨이퍼에서 이 특성의 편차가 상당히 크고, 웨이퍼 간 편차도 있고, 이 항복 전압의 편차도 꽤 큽니다. |
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네, 여기서 웨이퍼 맵을 생성했을 뿐만 아니라 분포도 포함하고 수율 등도 계산했습니다. 그리고 제목에 몇 가지 다른 특성도 넣었습니다. |
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로고와 메타정보도 있습니다. 기밀 사항이라 일부는 검은색으로 칠했습니다. |
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네, 그래서 모든 웨이퍼 문제 측정값을 자동으로 저장하고, 나중에 검토하고 공정을 파악하기 위해 이 웨이퍼 맵을 저장합니다. 또한 다른 구현 매개변수의 영향도 볼 수 있어서 꽤... |
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응 |
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...헬름홀츠-드레스덴-로센도르프 센터와 강력한 피드백 루프를 가지고 있으므로 우리는 그들과 함께 프로세스를 조정합니다. |
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네, 매일 밤 자동으로 생성되는 멋진 영상이죠. 멋지긴 한데, 이제 이 과정을 더 잘 제어하려면, 앞서 말씀드렸듯이 용량과 항복 전압에 대한 관계를 제대로 구축해야 합니다. 이 작업은 여기서 진행되며, 여기서 확인하실 수 있습니다. |
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많은 웨이퍼의 항복 전압 중앙값과 도즈(선량) 간의 관계... 구현을 위한 사용 도즈. 그리고 여기서 볼 수 있듯이, 상당한 차이가 있으며, |
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단일 투여량은 웨이퍼 간 또는 런 간 변동입니다. |
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그리고 그것은 생산하기 위해 상당한 도전이 되지만 통계적 관점에서 보면 물론 당신이 더 나아질 수 있습니다. |
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가장... 가장 원하는 중간값을 목표로 하고 가장 높은 수율을 얻으세요. 따라서 자동으로 |
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이를 위한 완전한 데이터베이스는 매일 밤 실행되는 루틴을 통해 구축되며, 나중에 우리나 나는 예측 프로파일러를 사용하여 고객이 원하는 목적과 사양에 맞는 파괴 전압을 목표로 합니다. |
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네, 그게 오늘날의 상황입니다. |
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선형 관계이며, 결국 2차적으로 성립합니다. 실제로 웨이퍼 상대성 이론도 포함할 수 있습니다. |
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하지만 지금은 그럴 필요가 없습니다. 또한 그 관계를 확립하려면 훨씬 더 많은 실행이 필요합니다. 수율을 두 자릿수만큼 개선하는 것은 이미 불가능했습니다. |
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이 회귀 과정을 통해. |
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그리고 더 나아가 프로세스 제어에 대한 전망을 말하자면 이제 스크립팅도 할 것입니다. |
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피팅 프로세스를 거쳐 계수를 다시 Excel 표로 내보내고, 마지막으로 Excel 메뉴에서 이를 생산 계획에서도 제어할 수 있습니다. |
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그만큼 |
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생산 계획의 동료들은 최신 정보를 사용하여 필요한 복용량을 스스로 계산할 수 있습니다. |
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항복 전압 대비 높은 수율을 얻기 위해 계수를 사용합니다. 네, 그래서 대부분의 작업은 스크립트 내에서 이루어집니다. |
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하지만 그 과정을 스크립팅하는 건 정말 즐거운 경험이었어요. 그리고 물론 First Sensor에 감사드리고, 특히 저희가 |
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여기서 발표할 수 있게 되어 영광이고, 오랫동안 이 과정의 책임자였던 프랭크 쿠델라와 ???, 그리고 특히 헬름홀츠-센터 드레스덴-로센도르프의 로만 보트거에게도 감사드립니다. 정말 감사합니다. |
