Niveau : Débutant
Ce projet vise à améliorer le Cpk en réduisant la quantité de particules générées lors du dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD). Ce problème de particules entraîne des pertes de rendement et des coûts de production élevés. Le processus de production est divisé en trois étapes : (1) Ajustement des données relatives aux particules à l'aide des distributions de Poisson et ZIP (JMP). (2) Combinaison de ces données avec les graphiques « Objectif », « Performance » et la carte de contrôle SPC (JMP). (3) Comparaison des performances par la méthode de Dunnett. (4) Combinaison de la distribution de Poisson avec le graphique « Objectif » afin d'optimiser le plan d'action des étapes suivantes.
Ce projet vise à réduire la génération de particules lors du dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) et à améliorer le Cpk. Les problèmes liés aux particules entraînent une baisse des rendements et une augmentation des coûts de fabrication. Le processus de production est divisé en trois étapes : (1) modélisation des données de particules à l’aide des distributions de Poisson et ZIP de JMP ; (2) combinaison des données de particules grâce aux graphiques cibles, aux graphiques de performance et aux cartes de contrôle SPC de JMP ; (3) comparaison des performances par la méthode de Dunnett ; et (4) combinaison des graphiques de Poisson et des graphiques cibles afin d’ajuster le plan d’action de l’étape suivante.
Ingénieure de procédés modulaires chez Applied Materials Corp., spécialisée dans le procédé JMP, River a travaillé comme ingénieure PECVD (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma) de 2015 à 2021, puis comme ingénieure de procédés modulaires depuis 1 an. Ses recherches portent sur la réduction des défauts, de la variabilité et des coûts d'exploitation, ainsi que sur l'optimisation du Cpk, de la correspondance et du rendement des procédés. Elle s'appuie sur ces connaissances pour identifier des opportunités et accroître la valeur ajoutée des services d'Applied Materials.
Il est ingénieur procédés de modules chez JMP Process (Applied Materials, Inc.). Il a travaillé comme ingénieur PECVD (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma) pendant cinq ans depuis 2015, et comme ingénieur procédés de modules depuis un an depuis 2021. Ses recherches portent sur la réduction des défauts, de la variabilité et du coût d'exploitation, ainsi que sur l'optimisation du Cpk, de l'adéquation et du rendement des procédés. Il s'attache à identifier les opportunités d'amélioration des services d'Applied Materials et à accroître leur valeur ajoutée grâce à ces enseignements.
