레벨: 초급
This Project is to improve the Cpk by reducing the particle generated in PECVD with time. The particle problem leads to yield loss and high cost of production. The whole production time is devide into 3 stages. (1) Fit particle data with JMP Poisson & ZIP Distribution. (2) Combine particle data with JMP Goal Plot, Performance Plot & SPC Control Chart. (3) Compare the performance with Dunnett's Method. (4) Combine Poisson Distribution with Goal Plot to modify the action plan for the next stages.
이 프로젝트는 PECVD에서 발생하는 입자를 시간 경과에 따라 감소시켜 Cpk를 향상시키는 것이다. 입자의 문제는 수율의 저하와 제조 비용의 상승으로 이어진다. 전체 생산 시간을 세 단계로 나눕니다. (1) JMP 포아송 분포와 ZIP 분포로 입자 데이터를 맞춘다. (2) JMP 골 플롯, 퍼포먼스 플롯, SPC 관리도를 이용하여 입자 데이터를 결합합니다. (3) Dunnett's Method로 성능을 비교합니다. (4) 포아송 분포와 목표 플롯을 결합하여 다음 단계의 액션 계획을 수정합니다.
Module Process Engineer from Applied Materials Corp., in JMP process. River had been a PECVD (Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition) engineer since 2015 for 5 years and as module process engineer since 2021 for 1 years. River's research COO reduction and Process Cpk /Matching /Output optimization; Identify opportunities or increase values for Applied service with those learnings.
Applied Materials Co., Ltd.의 JMP 프로세스 모듈 프로세스 엔지니어. 2015년부터 5년간 PECVD(Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition) 엔지니어로 2021년부터 1년간 모듈 프로세스 엔지니어로 근무해 왔습니다. 연구 테마는 결함, 편차, COO 감소, 프로세스 Cpk, 매칭 및 출력 최적화이며, 이러한 학습을 통해 어플라이드 머티리얼스의 서비스 기회를 파악하고 가치를 향상시키는 데 주력하고 있습니다. .
