Laura Lancaster, statisticienne de recherche principale JMP, développeuse, SAS
Jianfeng Ding, statisticien-chercheur principal et développeur, JMP
À l'ère du Big Data et de la fabrication complexe, il existe souvent une énorme quantité de données de processus qui doivent être surveillées et analysées pour maintenir ou améliorer la qualité. JMP dispose de plusieurs outils pour aider l'analyste à augmenter rapidement et efficacement l'échelle de surveillance de ses processus. La plateforme Process Screening permet aux utilisateurs d'analyser facilement les processus pour en vérifier la stabilité et la capacité et de se concentrer sur les processus nécessitant des améliorations. La plateforme calcule d'abord un rapport récapitulatif basé sur des calculs de carte de contrôle, de capacité et de stabilité, et crée plusieurs graphiques pour une évaluation visuelle rapide de l'état du processus. Sur la base de ces résultats initiaux, il est facile de sélectionner les processus nécessitant une attention particulière et de les explorer plus en profondeur grâce à l'accès au générateur de carte de contrôle et à la capacité du processus. La plate-forme de contrôle multivarié pilotée par modèle (MDMCC), nouvelle dans JMP 15, permet aux utilisateurs de surveiller de grandes quantités de processus hautement corrélés. Cette plateforme peut être utilisée conjointement avec les plateformes PCA et PLS pour surveiller la variation des processus multivariés au fil du temps, donner des avertissements avancés sur les changements de processus et suggérer les causes probables des changements de processus. Nous utiliserons des études de cas pour démontrer comment utiliser JMP pour surveiller et analyser de nombreux processus pour une amélioration rapide et efficace.
