Este artículo se centra en un producto MOSFET tratado con deposición metálica. Debido a la curvatura de las propiedades de la película metálica o a la variación del valor de tensión, se puede inducir un desplazamiento del voltaje umbral (Vth), lo que provoca una pérdida de rendimiento del dispositivo. Se realizaron pruebas DOE para identificar el desplazamiento del Vth tras el tratamiento de deposición metálica: DOE n.° 1 (condición base), n.° 2, n.° 3 y n.° 4. El resultado de Vth mostró: DOE n.° 1 Vth fue NG, otras divisiones OK. ¿Por qué Vth fue NG en la condición base de DOE n.° 1?
Se utilizó el software de análisis JMP para identificar la correlación entre el valor de curvatura y tensión con Vth. Se utilizaron tres tipos de métricas de no uniformidad de patrón en JMP para el análisis de curvatura y tensión: radial/planar o angular/descentrada. Los datos brutos de curvatura y tensión se transformaron en un estadístico descriptivo. Se definieron los criterios WIW-NU. Se realizó un análisis ANOVA que incluye varianzas iguales/distribución normal/modos de violación independientes. Se realizó un análisis de gráficos de variabilidad basado en radio, ángulo y diferencia de pares. Se utilizó el análisis de correlación multivariante de minería de datos para explorar la causa raíz del problema.
Bajo rendimiento en la condición base del DOE n.° 1, atribuido al valor del arco, la desviación estándar general fue la peor, especialmente la radial C4/C5. Un tratamiento posterior desigual en la condición del DOE n.° 1 empeoró la desviación estándar de la radial C4/C5 del arco de la oblea, lo que provocó la degradación del V-ésimo. El CIP de hardware y receta solucionó el problema del bajo rendimiento.
Hola a todos. Mi nombre es Shin Changjun. Soy ingeniero de soporte de procesos de Applied Materials China, West Kong. Charles Chen es mi copresentador. Hoy, nuestro tema es la implementación anual de un producto MOSFET basado en el análisis no uniforme JMP WIW. Este documento se centra en el producto MOSFET, que fue tratado con deposición de metal debido a que la película metálica o la variación del valor de tensión pueden inducir un cambio Vth, lo que causó la pérdida de rendimiento del dispositivo. La prueba DOE se llevó a cabo para identificar el proceso de tratamiento posterior a la deposición de metal en el cambio Vth incluye DOE número uno, condición base, número dos, número tres, número cuatro. Los resultados de Vth mostraron DOE número uno, la condición base, Vth fue NG y las otras divisiones están bien. ¿Por qué Vth fue NG sobre DOE número uno, la condición base? A continuación, se adoptó un software de análisis JMP para identificar la correlación de un arco y el valor de tensión con Vth. Primero, la transformación de datos JMP. Se utilizaron tres tipos de métricas de no uniformidad de empaque: no uniformidad radial, no uniformidad de planificación o angular y no uniformidad descentrada.
Luego, el DOE para la tensión y el valor de arqueamiento se transformó en una estadística descriptiva. Los resultados muestran que, en la variable no uniforme del valor de arqueamiento, el DOE número uno fue el peor, lo que podría estar relacionado con el desplazamiento V.
Entonces, a continuación, nos centramos principalmente en el análisis del valor del arco. En primer lugar, hicimos un análisis ANOVA de arco para radial. 6 radio, cero a C5 de VAPR DOE número uno, la línea base es diferente entre sí, según el análisis ANOVA. Además, con esta varianza igual, distribución normal e independencia, los tres índices coinciden con los criterios de ANOVA. En segundo lugar, hicimos un análisis del gráfico de variabilidad de arco. Para ambos, el gráfico de variabilidad se realizó con base en un radio, angular y par. El resultado muestra que el radial de arco C4 y C5, la región de un V4, DOE número uno, según la condición, fue el peor, lo que puede ser un factor clave causado por el cambio Vth. En tercer lugar, hicimos un análisis de correlación multivariante de minería de datos. Al principio, verificamos si el valor del arco es proporcional al orden de las olas. El resultado muestra el valor del arco. Esto confirma una nueva correlación con el orden del rango de las olas. Luego hicimos minería de datos. El análisis de correlación multivariante de minería de datos confirmó. Estábamos haciendo el número uno, la condición, la no uniformidad radial del arco contribuye más a la saturación general.
De acuerdo con el análisis del valor del arco anterior, resumimos el modelo de campo de desplazamiento V-ésimo en la condición base. Proponemos un tratamiento desde la deposición intrínseca o metadeposición y luego un tratamiento de bola hasta la deposición posterior a la mettadeposición.
Hazlo número uno, pérdida de rendimiento de la condición base atribuida al valor del arco. En general, la visión estándar fue la peor, especialmente en la proporción C4 y C5. Incluso el postratamiento sobre la condición número uno del DOE conduce a una desviación estándar de la cual proponemos una proporción C4 y C5. Incluso el postratamiento sobre la condición número uno del DOE conduce a una desviación estándar de la cual proponemos una proporción C4 y C5. Debido a la degradación de Vth. Finalmente, utilizamos hardware y receta CIP, por lo que el problema del bajo rendimiento. En conclusión, en este tema, el análisis JMP de variables adoptadas para identificar la correlación de un toro y valor de estrés con Vth. Tres tipos de métricas no uniformes de patrón se utilizaron en JMP para el toro y el análisis de estrés, incluyen radial, planar o angular y el sobrecentro no es uniforme. Los datos brutos de toro y estrés se transformaron en una estadística disruptiva. Definido de forma indistinta para criterios no uniformes, realiza un análisis inferior, que incluye ecovariantes, distribución normal y modelos de violación independiente. Realizar un análisis de gráficos de variabilidad, basado en radial, ángulo y par.
Utilice este análisis de correlación multivariable para explorar la causa raíz del problema. Finalmente, agradezco enormemente a mis mentores, Charles Chen y Yang Jiayi, por su mentoría. Gracias a mi gerente, Hank Qian, Tony Lu y Kang Jian, por su apoyo en este programa.
Gracias al equipo de Applied Materials China West MDP PSE por su excelente apoyo. Eso es todo por mi presentación. Gracias por su atención.
