À l’ère du Big Data et de la fabrication complexe, de grandes quantités de données générées au cours des processus de fabrication doivent souvent être surveillées et analysées pour maintenir ou améliorer la qualité des produits. JMP fournit une variété d'outils pour aider les ingénieurs et les analystes à surveiller rapidement et efficacement les processus à grande échelle. La carte de contrôle multivariée pilotée par modèle (MDMVCC) en fait partie. Utilisé conjointement avec les plateformes PCA et PLS, MDMVCC permet aux utilisateurs de surveiller un grand nombre de processus hautement corrélés afin de surveiller les changements de processus multivariables au fil du temps, de fournir un avertissement préalable des changements de processus et de fournir des recommandations sur les causes possibles des changements de processus. Nous démontrerons, à travers des études de cas, comment MDMVCC peut être utilisé pour surveiller et diagnostiquer de nombreux processus afin d'obtenir des améliorations rapides et efficaces.
