使用 JMP(R) 進行大規模製程監控 (2020-EU-TUT-315)Laura Lancaster，JMP 首席研究統計師開發人員，SAS
丁劍鋒，JMP 高級研究統計師開發人員
在這個大數據和複雜製造的時代，通常需要監控和分析大量的製程數據，以維持或提高品質。 JMP 擁有多種工具可協助分析師快速有效地擴大流程監控的規模。 流程篩選平台可讓使用者輕鬆掃描流程的穩定性和功能，並使他們能夠將注意力集中在需要改進的流程上。該平台最初根據控製圖、能力和穩定性計算出一份摘要報告，並建立多個圖表以快速直觀地評估製程健康狀況。根據這些初步結果，可以輕鬆選擇需要關注的流程，並透過存取控製圖產生器和流程功能更深入地探索它們。 JMP 15 中的新模型驅動多元控製圖 (MDMCC) 平台可讓使用者監控大量高度相關的流程。 此平台可與 PCA 和 PLS 平台結合使用，監控多變量製程隨時間的變化，對製程變化發出預先警告，並提出製程變化的可能原因。 我們將透過案例研究來示範如何使用 JMP 監控和分析許多流程，以實現快速且有效率的改進。
