JMP(R) を使用した大規模プロセス監視 (2020-EU-TUT-315)ローラ・ランカスター、SAS、JMP 主席研究統計開発者
Jianfeng Ding、JMP シニア研究統計開発者
ビッグデータと複雑な製造の時代では、品質を維持または向上するために監視および分析する必要のあるプロセス データが膨大になることがよくあります。JMP には、アナリストがプロセス監視の規模を迅速かつ効率的に拡大するのに役立つツールがいくつかあります。 プロセス スクリーニング プラットフォームを使用すると、ユーザーはプロセスの安定性と能力を簡単にスキャンし、改善が必要なプロセスに注意を集中できます。プラットフォームは最初に、管理図、能力、安定性の計算に基づいて概要レポートを計算し、プロセスの健全性をすばやく視覚的に評価するためのグラフをいくつか作成します。これらの初期結果に基づいて、注意が必要なプロセスを簡単に選択し、管理図ビルダーとプロセス能力にアクセスして詳細に調査できます。 JMP 15 の新機能であるモデル駆動型多変量管理図 (MDMCC) プラットフォームを使用すると、ユーザーは大量の相関性の高いプロセスを監視できます。 このプラットフォームは、PCA プラットフォームおよび PLS プラットフォームと組み合わせて使用することで、時間の経過に伴う多変量プロセス変動を監視し、プロセスの変化について事前に警告し、プロセスの変化の考えられる原因を提案することができます。 ケーススタディを使用して、JMP を使用して多くのプロセスを監視および分析し、迅速かつ効率的に改善する方法を説明します。
