JMP(R) 品質和 SPC 的最新發展 (2020-EU-45MP-306)Laura Lancaster，JMP 首席研究統計師開發人員，SAS
丁劍峰，JMP 資深研究統計師開發人員，SAS
Annie Zangi，JMP 資深研究統計師開發人員，SAS
JMP 擁有多個新的品質平台和功能 - 分佈中的現代化流程功能、CUSUM 控製圖和模型驅動的多元控製圖 - 使品質分析比以往更容易、更有效。長期存在的分佈平台已針對 JMP 15 進行了更新，具有更現代、功能更豐富的製程能力報告，該報告現在與製程能力和控製圖產生器中的能力報告相符。我們將示範 Distribution 中的新流程能力功能如何透過整合流程改善方法使能力分析變得更加容易。 CUSUM 控製圖平台旨在幫助使用者偵測過程中隨著時間的推移而發生的微小變化，例如逐漸漂移，在這種情況下休哈特圖的效果可能會較差。我們將示範如何使用 CUSUM 控製圖平台並使用平均遊程長度來評估圖表效能。 JMP 15 中的新增功能模型驅動多元控製圖 (MDMCC) 平台專為監控大量高度相關製程變數的使用者而設計。我們將示範如何將 MDMCC 與 PCA 和 PLS 平台結合使用，以監控隨時間變化的多變量過程變化，並對過程變化發出預先警告並提出過程變化的可能原因。
