JMP(R) 质量和 SPC 的最新发展 (2020-EU-45MP-306)Laura Lancaster，SAS JMP 首席研究统计开发人员
丁剑锋，JMP高级研究统计开发人员，SAS
Annie Zangi，JMP 高级研究统计开发人员，SAS
JMP 拥有多个新的质量平台和功能 - 分布中的现代化过程能力、CUSUM 控制图和模型驱动多元控制图 - 使质量分析比以往更加轻松有效。长期存在的分布平台已针对 JMP 15 进行了更新，具有更现代、功能更丰富的过程能力报告，该报告现在与过程能力和控制图生成器中的能力报告相匹配。我们将演示分布中的新过程能力功能如何通过集成过程改进方法使能力分析更加容易。CUSUM 控制图平台旨在帮助用户检测其过程中随时间发生的细微变化，例如逐渐漂移，而 Shewhart 图的效果可能较差。我们将演示如何使用 CUSUM 控制图平台并使用平均运行长度来评估图表性能。JMP 15 中新增的模型驱动多元控制图 (MDMCC) 平台专为监控大量高度相关过程变量的用户而设计。我们将演示如何将 MDMCC 与 PCA 和 PLS 平台结合使用，以监控随时间变化的多元过程变化、提前警告过程变化并提出过程变化的可能原因。
