視覺晶圓到掩模座標轉換器應用程式 (2019-US-30MP-182)等級：中級
John Como，英特爾公司製程工程師
在半導體製造中，掩模用於在光刻製程中將圖案壓印到晶圓上。 6 吋遮罩上的圖案尺寸比 12 吋晶圓上印刷的圖案大 4 倍，因此多個晶片被印刷到單個晶圓上。掩模圖案上的單一缺陷可能會導致重複出現壞晶片，並使製造公司損失數百萬美元，因此必須發現掩模缺陷並對其進行表徵。通常，掩模偵測機使用與晶圓偵測機不同的座標系，且在掩模上的線性距離比晶圓上的距離長 4 倍。如果在光罩上發現缺陷，則必須進行從光罩到晶圓座標的繁瑣轉換，以驗證是否存在影響。這種用 JSL 編寫的互動式應用程式可以輕鬆地將座標從一個系統轉換到另一個系統，甚至可以創建掩模、晶圓和缺陷位置的圖像，以便於與實際資料進行比較。本示範將涵蓋轉換背後的數學原理，並展示如何使用 JSL 建立應用程式來簡化計算。
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