Niveau: Mittelstufe
John Como, Prozessingenieur, Intel Corp.
In der Halbleiterfertigung werden Masken verwendet, um im Lithographieprozess Muster auf Wafer zu drucken. Die Musterabmessungen auf den 6-Zoll-Masken sind viermal größer als die auf den 12-Zoll-Wafern gedruckten Muster, sodass mehrere Chips auf einen einzigen Wafer gedruckt werden. Ein einzelner Fehler im Maskenmuster kann zu wiederholt fehlerhaften Chips führen und das produzierende Unternehmen Millionen kosten. Daher ist es unbedingt erforderlich, Maskenfehler zu finden und zu charakterisieren. Oft verwenden die Maskeninspektionsmaschinen ein anderes Koordinatensystem als die Waferinspektionsmaschinen, und die linearen Abstände auf der Maske sind viermal länger als die Abstände auf den Wafern. Wenn ein Defekt auf der Maske gefunden wird, muss eine mühsame Umrechnung von Masken- in Waferkoordinaten durchgeführt werden, um zu überprüfen, ob ein Effekt vorliegt. Diese in JSL geschriebene interaktive Anwendung erleichtert die Konvertierung von Koordinaten von einem System in ein anderes und erstellt sogar ein Bild der Maske, des Wafers und der Position des Defekts für einen einfachen Vergleich mit realen Daten. Diese Präsentation behandelt die Mathematik hinter den Konvertierungen und zeigt, wie JSL verwendet wurde, um eine Anwendung zur Vereinfachung der Berechnung zu erstellen.
