混合物 + プロセス変数の混合物プロファイラー3 つの混合変数と 2 つのプロセス変数を持つ DOE があります。混合変数には制約があるため、混合プロファイラー内のほとんどの領域が影付きで表示されます。
JMP17を使用しています。混合プロファイラーを使用して、プロセス変数を移動すると混合空間の等高線がどのように変化するかを示したいと思います。設計空間は三元プロットの一部であるため、等高線が明確に見えるように軸のスケールを変更する必要があります。問題は、これを実行した後 (図 1)、プロセス変数の 1 つのスライダーを動かすとすぐに、プロットがすぐに元のスケールに戻ってしまうことです (図 2)。解決策はありますか?
添付の jmp ファイルは、私が抱えている問題を説明する DOE の簡易バージョンです。
データの探索と視覚化Re: 混合物 + プロセス変数の混合物プロファイラー問題はわかりました。 それを回避する方法はわかりません。そのため、ウィッシュリストにリクエストを投稿することをお勧めします。
軸がデフォルトに戻り続ける理由として考えられるのは、現在表示されていない変数の設定を変更すると、設計空間の形状が変化することがよくあるからです。 大きくなったり小さくなったりする可能性があります。 実行可能なスペースのすべてを常に確認できるようにする唯一の方法は、軸を元の設定に維持することです。 それであなたのイライラが解消されるわけではないことは承知していますが、なぜそれが起こっているのかを理解することが助けになることを願っています。
おそらく誰かが、軸を「ズームイン」状態に保つための賢い方法を見つけられるかもしれません。
