我我仍然看見你的拋光桌子2吞吐量最佳化滑動也,
經過這方式。
我我不是當然如果它的只是真的落後的或者什麼的去在那裡。
你'關於不是看見這標題滑動？
現在我我看見這標題滑動。
我我去到去先和取消靜音我。
是的,我大學教師't知道如果那裡的任何事物我們做關於那任何一個。
那的得到到是喜歡A飛漲或者潛在地一個網際網路事物。
出色地,讓的去先和做這
和然後如果我看那事物看真的詹基,
我可能是訊息傳遞你。
但我思考為了這最多部分,
如果你只是或許拿A快的暫停之間幻燈片,
我們'二是好的。
我'二去先和沉默的,
和然後你能去先和得到開始了,湯姆。
我我真的高興的到是這裡今天和呈現到你。
我'二是討論化學機械的平面化或者化學機械拋光。
這是一個不可缺少的步在這半導體製造業過程
那我將要給A小的位元的背景在
作為我移動透過我的幻燈片。
讓的去到這第一的滑動的這推介會。
快的概述的化學機械拋光。
一次再次,那站立為了化學機械的平面化,
和那描述這二流程涉及
和平面化肯定層數的電路在這半導體場地。
它的至關重要的到平坦化每個層的電路
所以那這一那去在頂部的這前層
將要不是有任何短褲或者打開或者短的電路。
這化學部分的化學機械的平面化
是什麼時候我們介紹A液體
到反應和這頂部原子層的這材料那我們是平面化。
那反應軟化這層,
無論它的A金屬或者一個氧化物,任何這案件可能是,
我們選擇那化學所以那它將要軟化這頂部原子層。
然後這機械的部分來了
和這磨料那是小心已選擇為了那拋光泥。
這些磨料然後消除那軟化了頂部層,
暴露這下一個原子層到是軟化了經過這化學反應。
這過程是重複原子層後原子層
直到這想要的等級的平面化是到達。
喜歡我曾是說,
這平面化是至關重要的到做在之間每個層的電路
到確保那我們有堅硬的電力隔離
沒有任何短褲或者打開。
這過程使我們到樁許多層數在頂部的一其他
和減少這腳印的任何晶片我們'關於製作。
什麼時候我們做這化學機械拋光流程,
許多的他們組成的A二拋光桌子過程到使能夠最大限度吞吐量。
通常,這第一的桌子包括的A大部分拋光
在哪裡最多的A物質是平面化和已刪除,
和然後A最終的拋光或者第二拋光桌子
在哪裡我們做這最終的觸碰-UPS
和確保那我們有好的電力隔離之間這電路。
每個拋光桌子有A拋光軟墊
在哪裡我們按這晶圓含有這籌碼反對,
和這使這拋光過程到發生
和它使這泥到是按下反對這晶圓那包含這籌碼。
這拋光軟墊,很遺憾,
它穿著向下作為每個晶圓是拋光的在它,
哪個抑制這運輸的這化學泥到這晶圓表面。
通常,作為這拋光軟墊穿著,我們看A減少在拋光速度,
哪個原因更長和更長拋光次。
如果我們大學教師't拿那穿因素進入帳戶
和我們'關於環境向上這二-桌子過程,
然後我們將要有一拋光桌子開始到占主導地位,
和它能實際上發展這樣的A長的拋光時間
那它將要變得A限制因素在我們的吞吐量。
為了我的推介會今天,
我我解釋A過程由此我們能拿進入帳戶這軟墊穿速度
和仍然確保那我們有最佳化吞吐量。
方法和這結果。
我聚集和分析過的數據在聯合管理計劃
到展示這拋光時間相對拋光軟墊生活關係
為了桌子1和2為了A化學機械拋光二-桌子過程
在一的德州儀器製造設施。
我然後用過的聯合管理計劃腳本編寫語言,
這建成-在一體化功能到計算這區域
在下面這拋光時間相對軟墊生活曲線為了兩個都桌子。
然後,最後,我用過的這系統的方程式
到解決為了A桌子1拋光時間開始觀點
那已啟用平等的拋光時間相對拋光軟墊生活融合的地區
為了桌子1和2 。
這有保證那我們有達到了A最大化工具輸出
為了這化學機械拋光過程。
結論是那我們能使用聯合管理計劃
到發展,第一的的全部,拋光時間相對拋光軟墊生活曲線。
然後,第二,我們能使用聯合管理計劃腳本編寫語言,建成-在積分器。
我們能使用這組合
作為一個高效率的方式到最佳化化學機械拋光二桌子流程為了吞吐量。
讓的去到這下一個滑動。
這曲線那我們'關於看著在是什麼我們得到什麼時候我們陰謀這拋光時間
在這第一的桌子相對這拋光軟墊生活的那第一的桌子。
作為我們能看,這拋光時間作為這軟墊穿著
和我們拋光更多的和更多的晶圓在這拋光軟墊,
我們開始到看拋光次增加相當戲劇性地。
使用聯合管理計劃,我們能合身A線到這數據
和發展A簡單的是等於MX加乙坡截距功能到合身這數據。
我我使用A第一的命令這裡,
但如果這數據有道理的它,我們可以使用A第二或者第三命令。
但在這案件, A第一的命令是充足的。
我們發達這方程式為了拋光時間相對軟墊數數,
和然後我們使用這吉林省積分器到整合這區域在下面這線。
那的為了這拋光桌子1 。
然後我'二演講A小的位元更多的關於這方程式需要的到解決
為了這最佳的設定。
但第一的的全部,我們'二跳到拋光桌子2 。
拋光桌子2是這最終的,它的這精加工桌子
在哪裡我們結束去除任何這大部分材料是
我們'關於使用到隔離或者形式這些電路,電力電路。
這相同的事物為了拋光桌子2 ,
我們發達這曲線從歷史的數據
的拋光時間在秒相對這拋光軟墊生活。
通常,為了這拋光普拉特,為了這最終的普拉特或者最終的桌子,
這趨勢和拋光軟墊生活是不是作為明顯的作為它是
為了這大部分為了桌子1 。
前討論A小的位元更多的關於這些方程式,
只是到製作當然每個人的在這相同的頁,
我通緝到展示什麼身體上的這看起來喜歡在這晶圓表面
為了正在做這二-桌子拋光過程。
前我們開始到拋光任何事物,
我們有A晶圓和圖案電路在它。
然後,在頂部的那晶圓,
我們已經存入A大的數量,相對地請講,
的無論它的隔離器或者電的導電的材料,
任何是需要的到形式這電路那我們已經蝕刻的這裡。
後拋光桌子1 ,也已知的作為這大部分拋光桌子,
我們已經已刪除A重要的數量的這大部分材料
和我們已經平面化它,製成它非常平坦的。
然後後拋光桌子2 ,
哪個是也被稱為這清除或者這結束桌子,
我們已經已刪除全部的這大部分材料
除了在哪裡它的實際上需要的在這圖案電路。
身體上,那的什麼的正在發生在這二拋光桌子過程。
讓的去後退迅速地到這方程式。
我們整合這區域在下面桌子1 ,哪個是在這前滑動。
那的這大部分拋光時間相對桌子1拋光軟墊數數。
然後我們也整合這區域在下面這曲線,
哪個是這最終的或者結束桌子。
相同的事物,整合這區域在下面這拋光時間相對軟墊數數線。
然後我們解決這線性系統的方程式到尋找哪個是-截距,
在這案件,它的b1 ,和那的為了這桌子1 。
我們解決為了那b1那將要創造一個平等的融合的區域
在下面這桌子1和這桌子2曲線。
只是作為A提醒,
這聯合管理計劃腳本編寫語言有A便利功能
為了使能快的一體化
和決定這地區在下面這些二曲線。
然後基於在A很少其他特性
那我們知道基於在歷史的或者基線分析,
然後我們'關於有能力的到放向上A系統的方程式
和四未知數,四方程式,
和然後我們解決為了那截距在這第一的曲線
那使最大限度吞吐量在平等的區域在下面這些曲線。
和那,
幾乎這全部的過程能是完畢在聯合管理計劃,
和這例外的解決A系統的方程式
那能間接地是完畢在聯合管理計劃,或者你能寫A腳本。
但我已經成立它更輕鬆只是到解決這系統的方程式手動,
但它可以容易地是放向上到是完畢在聯合管理計劃作為出色地。
什麼時候你結束這過程,
然後你'關於有能力的到最佳化這二-桌子化學機械拋光系統
和你能最大化這吞吐量
和所以最小化這數位的拋光工具必需的,
哪個節省A很多的錢和節省A很多的時間。
那是這結尾的我的推介會。
感謝你。
