我我仍然看见你的抛光桌子2吞吐量优化滑动也,
经过这方式。
我我不是当然如果它的只是真的落后的或者什么的去在那里。
你'关于不是看见这标题滑动？
现在我我看见这标题滑动。
我我去到去先和取消静音我。
是的,我大学教师't知道如果那里的任何事物我们做关于那任何一个。
那的得到到是喜欢A飞涨或者潜在地一个互联网事物。
出色地,让的去先和做这
和然后如果我看那事物看真的詹基,
我可能是消息传递你。
但我思考为了这最多部分,
如果你只是或许拿A快的暂停之间幻灯片,
我们'二是好的。
我'二去先和沉默的,
和然后你能去先和得到开始了,汤姆。
我我真的高兴的到是这里今天和呈现到你。
我'二是讨论化学机械的平面化或者化学机械抛光。
这是一个不可缺少的步在这半导体制造业过程
那我将要给A小的少量的背景在
作为我移动通过我的幻灯片。
让的去到这第一的滑动的这推介会。
快的概述的化学机械抛光。
一次再次,那站立为了化学机械的平面化,
和那描述这二流程涉及
和平面化肯定层数的电路在这半导体场地。
它的至关重要的到平坦化每个层的电路
所以那这一那去在顶部的这前层
将要不是有任何短裤或者打开或者短的电路。
这化学部分的化学机械的平面化
是什么时候我们介绍A液体
到反应和这顶部原子层的这材料那我们是平面化。
那反应软化这层,
无论它的A金属或者一个氧化物,任何这案件可能是,
我们选择那化学所以那它将要软化这顶部原子层。
然后这机械的部分来了
和这磨料那是小心已选择为了那抛光泥浆。
这些磨料然后消除那软化了顶部层,
暴露这下一个原子层到是软化了经过这化学反应。
这过程是重复原子层后原子层
直到这想要的等级的平面化是到达。
喜欢我曾是说,
这平面化是至关重要的到做在之间每个层的电路
到确保那我们有坚硬的电气隔离
没有任何短裤或者打开。
这过程使我们到桩许多层数在顶部的一其他
和减少这脚印的任何芯片我们'关于制作。
什么时候我们做这化学机械抛光流程,
许多的他们组成的A二抛光桌子过程到使能够最大限度吞吐量。
通常,这第一的桌子包括的A大部分抛光
在哪里最多的A物质是平面化和已删除,
和然后A最终的抛光或者第二抛光桌子
在哪里我们做这最终的触碰-UPS
和确保那我们有好的电气隔离之间这电路。
每个抛光桌子有A抛光软垫
在哪里我们按这晶圆含有这筹码反对,
和这使这抛光过程到发生
和它使这泥浆到是按下反对这晶圆那包含这筹码。
这抛光软垫,很遗憾,
它穿着向下作为每个晶圆是抛光的在它,
哪个抑制这运输的这化学泥浆到这晶圆表面。
通常,作为这抛光软垫穿着,我们看A减少在抛光速度,
哪个原因更长和更长抛光次。
如果我们大学教师't拿那穿因素进入帐户
和我们'关于环境向上这二-桌子过程,
然后我们将要有一抛光桌子开始到占主导地位,
和它能实际上发展这样的A长的抛光时间
那它将要变得A限制因素在我们的吞吐量。
为了我的推介会今天,
我我解释A过程由此我们能拿进入帐户这软垫穿速度
和仍然确保那我们有优化吞吐量。
方法和这结果。
我聚集和分析过的数据在联合管理计划
到展示这抛光时间相对抛光软垫生活关系
为了桌子1和2为了A化学机械抛光二-桌子过程
在一的德克萨斯州仪器制造设施。
我然后用过的联合管理计划脚本编写语言,
这建成-在一体化功能到计算这区域
在下面这抛光时间相对软垫生活曲线为了两个都桌子。
然后,最后,我用过的这系统的方程
到解决为了A桌子1抛光时间开始观点
那已启用平等的抛光时间相对抛光软垫生活融合的地区
为了桌子1和2 。
这有保证那我们有达到了A最大化工具输出
为了这化学机械抛光过程。
结论是那我们能使用联合管理计划
到发展,第一的的全部,抛光时间相对抛光软垫生活曲线。
然后,第二,我们能使用联合管理计划脚本编写语言,建成-在积分器。
我们能使用这组合
作为一个高效的方式到优化化学机械抛光二桌子流程为了吞吐量。
让的去到这下一个滑动。
这曲线那我们'关于看着在是什么我们得到什么时候我们阴谋这抛光时间
在这第一的桌子相对这抛光软垫生活的那第一的桌子。
作为我们能看,这抛光时间作为这软垫穿着
和我们抛光更多的和更多的晶圆在这抛光软垫,
我们开始到看抛光次增加相当戏剧性地。
使用联合管理计划,我们能合身A线到这数据
和发展A简单的是等于MX加乙坡截距功能到合身这数据。
我我使用A第一的命令这里,
但如果这数据有道理的它,我们可以使用A第二或者第三命令。
但在这案件, A第一的命令是充足的。
我们发达这方程为了抛光时间相对软垫数数,
和然后我们使用这吉林省积分器到整合这区域在下面这线。
那的为了这抛光桌子1 。
然后我'二讲话A小的少量更多的关于这方程需要的到解决
为了这最佳的设置。
但第一的的全部,我们'二跳到抛光桌子2 。
抛光桌子2是这最终的,它的这精加工桌子
在哪里我们结束去除任何这大部分材料是
我们'关于使用到隔离或者形式这些电路,电气电路。
这相同的事物为了抛光桌子2 ,
我们发达这曲线从历史的数据
的抛光时间在秒相对这抛光软垫生活。
通常,为了这抛光普拉特,为了这最终的普拉特或者最终的桌子,
这趋势和抛光软垫生活是不是作为明显的作为它是
为了这大部分为了桌子1 。
前讨论A小的少量更多的关于这些方程,
只是到制作当然每个人的在这相同的页,
我通缉到展示什么身体上的这看起来喜欢在这晶圆表面
为了正在做这二-桌子抛光过程。
前我们开始到抛光任何事物,
我们有A晶圆和图案电路在它。
然后,在顶部的那晶圆,
我们已经存入A大的数量,相对地请讲,
的无论它的隔离器或者电的导电的材料,
任何是需要的到形式这电路那我们已经蚀刻的这里。
后抛光桌子1 ,还已知的作为这大部分抛光桌子,
我们已经已删除A重要的数量的这大部分材料
和我们已经平面化它,制成它非常平坦的。
然后后抛光桌子2 ,
哪个是还被称为这清除或者这结束桌子,
我们已经已删除全部的这大部分材料
除了在哪里它的实际上需要的在这图案电路。
身体上,那的什么的正在发生在这二抛光桌子过程。
让的去后退迅速地到这方程。
我们整合这区域在下面桌子1 ,哪个是在这前滑动。
那的这大部分抛光时间相对桌子1抛光软垫数数。
然后我们还整合这区域在下面这曲线,
哪个是这最终的或者结束桌子。
相同的事物,整合这区域在下面这抛光时间相对软垫数数线。
然后我们解决这线性系统的方程到寻找哪个是-截距,
在这案件,它的b1 ,和那的为了这桌子1 。
我们解决为了那b1那将要创造一个平等的融合的区域
在下面这桌子1和这桌子2曲线。
只是作为A提醒,
这联合管理计划脚本编写语言有A便利功能
为了使能快的一体化
和决定这地区在下面这些二曲线。
然后基于在A很少其他特性
那我们知道基于在历史的或者基线分析,
然后我们'关于有能力的到放向上A系统的方程
和四未知数,四方程,
和然后我们解决为了那截距在这第一的曲线
那使最大限度吞吐量在平等的区域在下面这些曲线。
和那,
几乎这全部的过程能是完毕在联合管理计划,
和这例外的解决A系统的方程
那能间接地是完毕在联合管理计划,或者你能写A脚本。
但我已经成立它更轻松只是到解决这系统的方程手动,
但它可以容易地是放向上到是完毕在联合管理计划作为出色地。
什么时候你结束这过程,
然后你'关于有能力的到优化这二-桌子化学机械抛光系统
和你能最大化这吞吐量
和所以最小化这数字的抛光工具必需的,
哪个节省A很多的钱和节省A很多的时间。
那是这结尾的我的推介会。
感谢你。
