Sukti Chatterjee，應用材料公司高級技術人員
Shrikant Swaminathan，應用材料公司機械工程師經理
王妙君，工藝工程師，應用材料公司
王飛，應用材料公司董事
Lance Scudder，應用材料公司總監
Pravin K Narwankar，應用材料公司董事總經理
X 射線光電子能譜 (XPS) 分析材料的表面化學。 它也稱為化學分析電子能譜 (ESCA)，通常用於測量不同行業中薄膜塗層的元素成分/化學計量。 我們已應用該技術通過測試沉積薄膜成分來確定 O/Al 比率，從而開發原子層沉積 (ALD) AlOx 塗層（厚度 < 50 nm）工藝。
我們的製藥項目客戶質疑 XPS 是否是檢測塗層成分過程變化的合適計量技術。 本演示通過在 JMP 17 中使用 Gauge R&R 演示 XPS 的充分性。 我們使用測量系統分析 (MSA) 設計平台設計測試實驗，並使用快速復制交叉模型，在兩種不同類型的基材（矽試樣和活性藥物成分 [API] 顆粒）上使用六個樣品試樣。 每個樣品被分成四部分，所有 24 個 (6 X 4) 樣品均由兩個不同供應商獨立盲測。
使用多種方法審查數據分佈：X-bar 和 R 控製圖、執行重複性、再現性、部件間變異測試、計算儀表 R&R (P/TV)、P/PV、MSA 中的 P/T測量 R&R 平台。 此外，評估測量過程 (EMP) 平台用於確定類間相關性 (ICC) 並確定是否與基材類型或供應商存在任何交互。兩個 MSA 平台均證實零件變異明顯高於精度水平，因此 XPS 足以檢測過程中的變異
