William Entley, leitender F&E-Manager, EMD Electronics
Jed Campbell, leitender Systemingenieur, JMP
Jennifer Achtyl, leitende Forschungs- und Entwicklungswissenschaftlerin, EMD Electronics
Robert Ridgeway, Senior F&E Manager, EMD Electronics
Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) wird häufig zur Abscheidung dünner Schichten in der Halbleiterfertigung eingesetzt. PECVD-Prozesse sind Gasphasenprozesse, die typischerweise bei niedrigen Drücken in speziell entwickelten Abscheidungskammern durchgeführt werden. Viele Prozessparameter beeinflussen die Dünnschichteigenschaften auf schwer zu charakterisierende Weise.
Diese Präsentation zeigt:
- Wie die Generalized Regression-Plattform verwendet wurde, um ein definitives Screening-Design zu „retten“, bei dem Läufe nicht abgeschlossen werden konnten.
- Wie das ursprüngliche Design erweitert wurde.
- Wie dieser komplexe Designraum schließlich gut genug verstanden wurde, um einen neuen Vorläufer zu finden und effektiv einen dünnen Film zu identifizieren, der die angestrebten Filmeigenschaften (hohe mechanische Festigkeit) in möglichst wenigen Experimenten maximiert.
Diese Präsentation ist überwiegend praxisorientiert und verwendet JMP in Echtzeit.
