Sukti Chatterjee，应用材料公司高级技术人员
Shrikant Swaminathan，应用材料公司机械工程师经理
王妙君，工艺工程师，应用材料公司
王飞，应用材料公司董事
Lance Scudder，应用材料公司总监
Pravin K Narwankar，应用材料公司董事总经理
X 射线光电子能谱 (XPS) 分析材料的表面化学。 它也称为化学分析电子能谱 (ESCA)，通常用于测量不同行业中薄膜涂层的元素成分/化学计量。 我们已应用该技术通过测试沉积薄膜成分来确定 O/Al 比率，从而开发原子层沉积 (ALD) AlOx 涂层（厚度 < 50 nm）工艺。
我们的制药项目客户质疑 XPS 是否是检测涂层成分过程变化的合适计量技术。 本演示通过在 JMP 17 中使用 Gauge R&R 演示 XPS 的充分性。 我们使用测量系统分析 (MSA) 设计平台设计测试实验，并使用快速复制交叉模型，在两种不同类型的基材（硅试样和活性药物成分 [API] 颗粒）上使用六个样品试样。 每个样品被分成四部分，所有 24 个 (6 X 4) 样品均由两个不同供应商独立盲测。
使用多种方法审查数据分布：X-bar 和 R 控制图、执行重复性、再现性、部件间变异测试、计算仪表 R&R (P/TV)、P/PV、MSA 中的 P/T测量 R&R 平台。 此外，评估测量过程 (EMP) 平台用于确定类间相关性 (ICC) 并确定是否与基材类型或供应商存在任何交互。两个 MSA 平台均证实零件变异明显高于精度水平，因此 XPS 足以检测过程中的变异
