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JMP Gage R&R分析在面板制程针对Particle检测机台的应用_Applied Materials

演讲嘉宾：Hans Hsu，应用材料公司（Applied Materials），CVD制程工程师

演讲主题：JMP Gage R&R分析在面板制程针对Particle检测机台的应用

演讲摘要：

在面板制程中，我们会使用AOI光学检测机台来扫描一片玻璃上存在多少颗微米等级的particle，但是否存在误判、或是漏判，却难以评估，一般都是透过拍照后人工确认扫描到的位置是否真的存在一颗particle，但能拍照的张数远远无法涵盖整张玻璃的面积。而在统计上常规的Gage R&R一般应用于针对物理特性的数值做量化分析。但particle存在与否却是0与1的差别，没办法做量化分析。因此，本次演讲主要探讨如何量化分析particle检测机台的Gage R&R。

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