Lautsprecher : Hans Hsu, Angewandte Materialien, CVD-Prozessingenieur
das Redethema : Anwendung der JMP Gage R&R-Analyse bei der Plattenherstellung für Partikelinspektionsmaschinen
Rede abstrakt :
Im Panel-Herstellungsprozess verwenden wir optische AOI-Inspektionsmaschinen, um zu scannen, wie viele mikrometergroße Partikel auf einem Stück Glas vorhanden sind. Es ist jedoch schwierig zu beurteilen, ob Fehleinschätzungen oder Fehleinschätzungen vorliegen. Normalerweise wird dies manuell durch Aufnehmen von Bildern bestätigt Ob sich tatsächlich ein Partikel in der gescannten Position befindet, aber die Anzahl der Fotos, die aufgenommen werden können, deckt bei weitem nicht die Fläche des gesamten Glases ab. In der Statistik wird herkömmliches Gage R&R im Allgemeinen zur quantitativen Analyse der numerischen Werte physikalischer Eigenschaften verwendet. Aber die Existenz von Teilchen ist der Unterschied zwischen 0 und 1, und es gibt keine Möglichkeit, eine quantitative Analyse durchzuführen. Daher geht es in diesem Vortrag hauptsächlich um die quantitative Analyse des Gage R&R der Partikelinspektionsmaschine.
