스피커 : Hans Hsu, Applied Materials, CVD 프로세스 엔지니어
연설 주제 : 파티클 검사 장비용 패널 제조에 JMP Gage R&R 분석 적용
연설 개요 :
패널 제조 공정에서 AOI 광학 검사기를 이용하여 유리 한 장에 미크론 크기의 파티클이 몇 개나 존재하는지 스캔하는데, 오판정이나 오판정 여부를 평가하기가 어려우며, 보통은 사진을 찍어 수동으로 확인한다. 스캔 위치에 실제로 입자가 있는지 여부는 있지만 촬영할 수 있는 사진의 수는 전체 유리 영역을 덮지 않습니다. 통계에서 기존의 Gage R&R은 물리적 특성 수치의 정량 분석에 일반적으로 사용됩니다. 그러나 입자의 존재 여부는 0과 1의 차이이며 정량 분석을 할 수 있는 방법이 없습니다. 따라서 이 연설에서는 주로 입자 검사기의 Gage R&R을 정량적으로 분석하는 방법에 대해 논의합니다.
