Altavoces : Hans Hsu, materiales aplicados, ingeniero de procesos de CVD
el tema del discurso : Aplicación del análisis JMP Gage R&R en la fabricación de paneles para máquinas de inspección de partículas
discurso abstracto :
En el proceso de fabricación de paneles, utilizamos máquinas de inspección óptica AOI para escanear cuántas partículas del tamaño de una micra existen en una pieza de vidrio, pero es difícil evaluar si hay errores de apreciación o juicios erróneos. Por lo general, se confirma manualmente tomando fotografías. Si realmente hay una partícula en la posición escaneada, pero la cantidad de fotos que se pueden tomar está lejos de cubrir el área de todo el cristal. En estadística, el Gage R&R convencional se usa generalmente para el análisis cuantitativo de los valores numéricos de las propiedades físicas. Pero la existencia de partículas es la diferencia entre 0 y 1, y no hay forma de hacer un análisis cuantitativo. Por lo tanto, este discurso trata principalmente sobre cómo analizar cuantitativamente el Gage R&R de la máquina de inspección de partículas.
