DOE: カスタム デザイナーで 2/3/4 の投影可能なデザイン?こんにちは。お客様から、カスタム デザイナーで「投影可能な」デザインを作成できるかどうか尋ねられました。
彼が指定した投影可能な計画は、たとえば n 因子の計画として指定され、たとえば n (>3) 因子のうち任意の 3 つを選択すると、完全な要因計画自体が構築されます。 この場合、それは 3 プロジェクト設計と呼ばれます。
私はこれまでこのようなことに遭遇したことがなかったので、DOE の擁護者が何らかの洞察を提供できると思いました 
ありがとう
Re: DOE: カスタム デザイナーで 2/3/4 の投影可能なデザイン?やあ@マーティンデメル、
DOE では予測について話します。 たとえば、6 因子 DSD の 3 因子投影はすべて同等であり、3 因子すべての完全な RSM を推定できるということを聞いたことがあるかもしれません。
おそらくお客様は 2 レベルのデザインについて質問していると思います。 部分実施要因 2 レベル計画には、次のような射影特性があります。
2^3-1 分数階乗、つまり 2 レベル、3 因子、4 回の実行を想像してください。 2 因子投影法は 3 つあります (X1/X2、X1/X3、X2/X3)。 すべての 2 因子予測は、それらの因子の完全階乗です。
2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 design2^3-1 設計
2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2-factor projections of 2^3-1 design2^3-1 計画の 2 因子射影
これをさらに多くの因子に拡張できます。 2^4-1 部分階乗の 3 因子射影はすべて完全階乗です。 また、2^4-2 分数階乗の 2 因子射影はすべて完全階乗です。
カスタム デザインでは投影プロパティを直接問い合わせる方法はありません。 ただし、必要な射影プロパティを持つ分数階乗を作成することはできます。 JMP の従来の設計ツールを使用するのがおそらく最も簡単な方法です。
これがお役に立てば幸いです。
フィル
Re: DOE: カスタム デザイナーで 2/3/4 の投影可能なデザイン?利用可能な実行よりも多くの要素を実験する必要がある場合、過飽和設計についても言及する価値があるかもしれません。
Re: DOE: カスタム デザイナーで 2/3/4 の投影可能なデザイン?最初の 2 つの返信は、厳密に質問に非常によく答えています。 私は別の視点を提供します。
カスタム設計は、目的関数を使用した座標交換アルゴリズムを使用して、最適または最適に近い設計を検索します。 私が知っている射影用の目的関数はなく、もちろん JMP にもありません。したがって、厳密に言えば、カスタム デザインではそのような特性を持つ設計を検索することはできません。
なぜ投影が重要なのでしょうか? 設計法が通常の一部実施要因計画に限定されていた場合、低解像度計画に固有の交絡により推定が制限され、モデル パラメーターを推定できるかできないかが決まりました。 スパース効果の原理は、スクリーニング状況ではモデルから因子を除去し、投影の恩恵を受ける可能性が高いことを示唆しています (交絡が少なく、より多くの推定が可能)。 投影の利点は、何よりもバランスを必要とする手計算と関係があります。 過去 1 世紀にわたって、手法と考え方は変化してきました。 統計学を専攻している場合を除き、パラメーターを手動で推定することはもうありません。 回帰分析を使用する場合、推定値の相関関係は望ましくありませんが、致命的ではありません。 カスタム設計と回帰分析の柔軟性は、実際の投影の要件を圧倒します。 設計で最良の推定可能性を達成するには、Alias の最適性基準を使用します。 (DSD は、エイリアス最適設計の特殊なケースです。)
Re: DOE: カスタム デザイナーで 2/3/4 の投影可能なデザイン?どうもありがとうございます、お三方の説明は本当に参考になりました！
